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荷兰光刻机卡脖子?中国反手一个稀土锁喉!

荷兰政府出口管制政策 - 荷兰政府于10月31日宣布将DUV光刻机出口限制从7纳米下调至14纳米,导致ASML的中阶机型1970i、1980i均需申请许可证,审批周期延长至90天 [2] - 政策调整的理由是“担心军事安全”,但未提供实质性证据 [2] ASML所受影响 - 中国是ASML最大的DUV市场,全球35%的DUV设备销往中国 [4] - 2024年ASML对华营收占比28%,其中DUV设备销售额占比近90% [4] - 新规出台后,ASML股价当天暴跌8.2% [4] ASML的应对策略 - 推出NX2000新机型,通过微调参数以绕开管制标准,客户需额外花费800万美元进行适配,即可用于生产7纳米芯片 [6] - 在苏州建立技术服务中心,并储备价值5亿美元的零部件,将设备维修周期从45天压缩至15天 [7] 中国的反制措施 - 中国升级稀土管制规定,要求光刻机中若含0.1%中国来源的稀土,无论在哪里生产都需许可证 [9] - ASML单台光刻机的稀土磁体用量超过10公斤,而全球90%的稀土精炼产能在中国 [10] - ASML的稀土库存最多仅能维持8周 [10] 中国半导体产业的进展 - 中芯国际正加大与日本厂商的合作 [16] - 上海微电子的28纳米光刻机良品率已达到90% [16] - 国产光刻设备的成本仅为ASML同类设备的三分之一 [16]