IT之家 12 月 15 日消息，ASML 首席执行官 Christophe Fouquet（克里斯托夫・富凯 / 傅恪礼）在公司总部接受彭博社专访时称，他预计 High NA EUV 光刻 机将于 20272028 年正式投入先进制程的大规模量产作业中。 Fouquet 表示，High NA EUV 光刻机目前正由英特尔等客户测试，结果显示新设备的成像和分辨率表现良好，该企业 2026 年的任务之一是与客户合作将设 备的停机时间最小化。 Fouquet 还提到，ASML 对未来 1015 年的大致技术路线已有一定的概念。该企业已启动下一代 Hyper NA EUV 的研究，为本世纪 30 年代的投运打下基 础。 目前在导入新一代图案化技术上最积极的是英特尔代工，其支持 High NA EUV 的 Intel 14A 节点将在 2027 年正式推出。 ...