文章核心观点 - 中微公司创始人、董事长尹志尧因恢复中国籍需办理税务而计划减持少量股份 这一事件引发市场关注 其个人创业历程与公司发展轨迹体现了中国半导体设备行业从零起步、突破国际垄断并跻身全球领先的历程 [2][11] 公司发展里程碑 - 公司由时年60岁的尹志尧于2004年创办 历经20余年发展 已成为全球领先的微观加工设备巨头 在刻蚀领域可与应用材料、泛林半导体等国际巨头竞争 [2][3] - 2007年6月 公司首台双反应台CCP刻蚀设备研制成功并交付 实现了国产高端刻蚀设备从0到1的突破 该设备可用于12英寸晶圆 覆盖65纳米至45纳米制程 [7] - 2019年7月22日 公司作为首批企业之一登陆科创板 是其中唯一的半导体设备制造企业 发行市盈率高达170倍 [9] - 截至2026年1月16日 公司市值高达2361亿元 [2] 创始人背景与贡献 - 创始人尹志尧在硅谷半导体巨头（英特尔、泛林半导体、应用材料）工作近20年 是几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和工业化应用推动者之一 个人拥有超过80项美国专利 [3][4] - 在泛林半导体主导研发了“彩虹号”电容性介质等离子体刻蚀机 在应用材料担任企业副总裁、刻蚀产品事业部总经理等职 [3] - 2004年 尹志尧辞去应用材料副总裁职务 回国创办中微公司 [6] 技术与产品突破 - 公司首创“去耦合反应离子刻蚀”概念 解决了行业20年的等离子源难题 技术领先国际巨头数年 [7] - 公司研发了“双反应台同时加工”设计 使生产效率在同等占地空间内翻倍 [7] - 目前公司已开发18种等离子体刻蚀设备 覆盖从65纳米至5纳米及更先进制程工艺 [9] - 在薄膜沉积设备（MOCVD）领域 公司于2010年从零开始 打破了美国维科和德国爱思强在国内市场的长期垄断 [9] 市场与财务表现 - 2025年前三季度 公司实现营业收入80.63亿元 同比增长46.40% 实现归属于上市公司股东净利润12.11亿元 同比增长32.66% [2] - 2025年前三季度 公司研发支出达25.23亿元 同比增长约63.44% 研发费用占营业收入比例高达31.29% [10] 行业竞争与挑战 - 公司初创时面临国际巨头建立的数十年专利壁垒和市场霸权的压制 [7] - 2007年10月 应用材料在美国起诉中微公司侵犯专利并窃取商业秘密 随后泛林集团也提起诉讼 公司最终通过法律途径成功应对并达成和解 [8][9] - 2015年 美国商务部解除了对中国高端刻蚀设备的出口管制 理由是中微等离子体刻蚀机的成功研发和量产使技术封锁“已无必要” [9] - 上市后 公司面临的地缘政治压力加剧 被迫加速研发补短板进程 [10] 刻蚀工艺的行业地位 - 刻蚀是芯片制造三大核心工艺（光刻、刻蚀、薄膜沉积）之一 负责在硅片上雕刻微观沟槽 [3][5] - 随着芯片制程从28纳米向更先进制程演进 刻蚀难度呈几何级数增长 每一代制程演进都离不开刻蚀机的精准作业 [5] - 在14纳米以下制程 行业需通过多重模板技术 利用刻蚀机和薄膜的配合将线条由粗变细 刻蚀技术的突破直接为先进制程量产清除障碍 [5]