核心财务业绩 - 预计2025年全年归属于上市公司股东的净利润为20.80亿元—21.80亿元，同比预增28.74%—34.93% [1] - 预计2025年全年归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润为15.00亿元—16.00亿元，同比预增8.06%—15.26% [1] 主营业务（等离子体刻蚀设备）表现 - 等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高 [1] - 等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户认可 [1] - 针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升 [1] - 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产 [1] 新产品开发与市场进展 - 近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，多款新型设备产品已进入市场 [1] - 部分新设备已获得重复性订单 [1] - LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台 [1] - 其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进 [1] - EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段 [1] MOCVD设备业务布局 - 持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位 [2] - 积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场 [2] - 在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得良好进展 [2] - 几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段 [2] - 新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利 [2] 产能与供应链保障 - 南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了销售快速增长 [2] - 持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全 [2] - 设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付为销售增长提供有力支撑 [2] 研发与运营管理 - 特别重视核心技术创新，强调创新和差异化并保持高强度研发投入 [2] - 运营管理水平持续提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强 [2]