核心财务表现 - 公司预计2025年营收同比增长逾36%至123.85亿元人民币 [1] - 预计2025年归属于母公司所有者的净利润为20.80亿元至21.80亿元，同比增长约28.74%至34.93% [1] - 剔除非经常性损益后，核心净利润预计为15.00亿元至16.00亿元，增幅区间为8.06%至15.26% [1] - 2025年计入非经常性损益的股权投资收益预计为6.11亿元，较上年同期的1.98亿元大幅增加约4.13亿元 [3] 核心业务增长 - 刻蚀设备作为核心增长引擎，全年销售额预计达98.32亿元，同比增长约35.12% [1] - 薄膜设备业务增长迅猛，LPCVD和ALD等设备收入录得约5.06亿元，同比激增224.23% [1] - 截至2025年底，公司刻蚀设备反应台全球累计出货量已超过6,800台 [2] - 公司的CDP产品部门已开发出十多款导体和介质薄膜设备，性能达到国际领先水平 [2] - LPCVD设备累计出货量已突破300个反应台，部分设备已获得重复性订单 [2] 研发投入与战略 - 2025年研发投入高达37.36亿元，较上年增长52.32%，占营收比例超三成 [1][2] - 计入损益的研发费用同比增长约74.36%至24.72亿元 [2] - 高强度研发投入旨在弥补国产半导体设备短板并确立长期增长基础 [2] 技术与产品进展 - CCP设备在关键介质刻蚀领域保持高速增长，已全面覆盖存储器应用中的各类超高深宽比需求 [2] - ICP设备针对下一代逻辑和存储客户的设备开发取得进展，加工精度和重复性已达到单原子水平 [2] - EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段，减压EPI设备已付运至成熟制程和先进制程客户 [3] - 在化合物半导体领域，保持了在氮化镓基MOCVD设备的市场领先地位 [4] - 新型八寸碳化硅外延设备及新型红黄光LED应用设备已付运至国内领先客户开展验证 [4] - 常压外延设备已完成开发，正式进入工艺验证阶段 [4] 运营与供应链 - 在营收大幅增长的带动下，2025年公司毛利较去年增长约11.45亿元 [3] - 公司位于南昌约14万平方米以及上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用 [3] - 公司持续开发关键零部件供应商，以推动供应链的稳定与安全，确保了设备交付率保持在较高水准 [3]