巨头抢滩,HBM4倒计时

文章核心观点 - 2026年是高带宽内存(HBM)发展的关键年份,HBM4产品进入全面量产冲刺阶段,三大存储巨头(SK海力士、三星、美光)均已展示并计划在2026年大规模出货其HBM4产品 [1] - 三大公司在HBM4的技术路径、产能布局和供应链策略上存在显著差异,行业竞争格局加剧,同时为满足AI驱动的爆发性需求,各公司正以前所未有的力度推进全球产能扩张 [1][15][20] HBM4产品技术亮点 - SK海力士HBM4:采用16层堆叠,容量达48GB,整体带宽突破2TB/s [3];其技术亮点包括自研的MR-MUF封装技术,将单颗DRAM晶圆减薄至30微米 [8];并与台积电合作,将12纳米逻辑芯片集成到HBM4的基础芯片中 [8] - 三星HBM4:采用1c DRAM工艺技术和混合键合封装技术,是唯一在自有晶圆厂完成DRAM、逻辑芯片制造及3D封装全链条的供应商 [9];其首款36GB HBM4带宽为2.4TB/s,并计划发布带宽达3.3TB/s的新款产品,较上一代提升37.5% [10];在博通主持的测试中,其HBM4运行速度达到中低段11Gb/s水平,表现位列三大厂商之首 [9] - 美光HBM4:12层堆叠,已向客户交付的样品带宽超过2.8TB/s,数据速率突破11Gb/s [14];其技术关键包括成熟的1b DRAM、自研的先进CMOS基地芯片以及与台积电合作生产逻辑芯片 [14];美光的HBM4E计划在2027年上市 [14] 产能格局与扩张计划 - 当前产能(截至2025年底):三大厂商的DRAM晶圆月加工能力分别为:三星65.5万片,SK海力士54.5万片,美光34万片 [19];其中用于HBM的TSV工艺晶圆月加工能力分别为:三星15万片(占其DRAM总产能23%),SK海力士15万片(占28%),美光5.5万片(占16%) [19] - 2026年底产能预测:DRAM晶圆月加工能力预计分别为:三星67万片(同比增长1.5万片),SK海力士60万片(同比增长5.5万片),美光36万片(同比增长2万片) [19];TSV(HBM)晶圆月加工能力预计分别为:三星15万片(与去年持平),SK海力士20万片(同比增长5万片),美光10万片(同比增长4.5万片) [28] - 公司具体策略: - SK海力士采取“HBM3E+HBM4”双代并行策略,已锁定2026年全部DRAM与NAND产能的客户需求,预计全年DRAM出货量同比增长超20%,并判断HBM供应紧张将持续至2027年 [19] - 美光预计2025年至2028年全球HBM总潜在市场规模将从350亿美元增至1000亿美元,复合年增长率约为40% [20];计划在2026年将其HBM4产能提升至每月1.5万片晶圆 [20] - 三星的扩张步伐相对谨慎,其TSV产能预计在2026年底与2025年持平 [28] 全球制造与封装布局 - SK海力士全球布局: - 韩国利川的M10工厂承担HBM内存封装任务,M16工厂专注于生产DRAM产品 [21] - 韩国清州的M15X工厂已提前至2026年2月量产,初期月产能约1万片,目标到2026年底提升至5.5万–6万片,同时生产HBM3E与HBM4 [21];计划投资19万亿韩元建设P&T7先进封装后端晶圆厂,预计2027年底竣工 [23] - 启动龙仁半导体集群项目,总投资600万亿韩元,首座工厂预计2027年5月投产 [23] - 美国印第安纳州投资38.7亿美元建设先进封装中心,计划2028年下半年运营 [23] - 中国无锡厂是其存储芯片生产主力,占全球DRAM总产量的30%–40%,月产能达18万–19万片12英寸晶圆 [23] - 三星全球布局: - 韩国平泽P4工厂被指定用于1c DRAM的量产,计划用于HBM4等高端产品 [24];计划于2026年Q1敲定最终供应合同,Q2启动正式量产交付 [25] - 美国奥斯汀工厂生产逻辑芯片,泰勒工厂准备生产基于2nm工艺的特斯拉AI6芯片 [24] - 美光全球布局: - 在新加坡投资70亿美元建设专门的HBM先进封装工厂,原计划2026年开始运营 [26] - 在日本建广岛工厂专门生产HBM芯片,2025年5月动工,预计2028年左右规模化出货,日本政府提供最多5,360亿日元补贴 [26] - 在美国投资1000亿美元建设大型晶圆厂综合体,其中两座已动工,预计2030年开始投产 [27];并计划在爱达荷州博伊西市建设第二座内存制造工厂 [27] - 以18亿美元现金收购力积电苗栗铜锣P5晶圆厂,交易预计2026年Q2完成,以应对当下生产需求 [27]

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