核心财务表现 - 2025年实现营业总收入约123.85亿元，同比增长36.62% [1] - 2025年实现归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，同比增长30.69% [1] - 2025年实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润约15.50亿元，同比增长11.64% [1] - 报告期末公司总资产约297.72亿元，较期初增长13.56% [1] - 报告期末归属于母公司的所有者权益约226.95亿元，较期初增长14.99% [1] 主营业务与产品进展 - 主营产品等离子体刻蚀设备2025年销售约98.32亿元，同比增长35.12% [1] - 等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户认可，针对先进逻辑和存储器件制造的高端产品新增付运量显著提升 [1] - 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺已实现量产 [1] - LPCVD和ALD设备2025年销售约5.06亿元，同比增长高达224.23% [1] - LPCVD设备累计出货量已突破三百个反应台，部分新型设备已获得重复性订单 [2] - 公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，并积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场 [2] - 在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得良好进展，几款MOCVD新产品已进入客户端验证阶段 [2] - EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段 [2] - 新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证 [2] 研发投入与创新 - 2025年公司研发投入约37.44亿元，较去年增长12.91亿元，同比增长约52.65% [2] - 研发投入占公司营业收入比例约为30.23%，远高于科创板均值 [2] - 2025年研发费用24.75亿元，较去年增长约10.58亿元，同比增长约74.61% [2] - 近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备 [1] - 多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进 [2] - 公司特别重视核心技术创新，强调创新和差异化并保持高强度研发投入 [3] 产能扩张与运营管理 - 公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已投入使用，合计超过32万平方米的产业化空间 [3] - 持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准 [3] - 运营管理水平持续提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强 [3]