核心财务业绩 - 2025年实现营业收入123.85亿元，同比增长36.62% [1] - 2025年实现归属于母公司所有者的净利润21.11亿元，同比增长30.69% [1] - 2025年研发投入37.44亿元，同比增长52.65%，占营业收入比例为30.23% [1] 主营业务与市场表现 - 主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备，市场空间广阔且技术壁垒高 [1] - 等离子体刻蚀设备在国内外获更多客户认可，针对先进逻辑和存储器件制造的关键刻蚀工艺高端产品新增付运量显著提升 [1] - 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺已实现量产 [1] 新产品与研发进展 - 近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，多款新型设备产品已进入市场，部分设备获得重复性订单 [2] - LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目顺利推进 [2] - EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段 [2] MOCVD业务与市场布局 - 持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场 [2] - 在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段 [2] - 新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利 [2] 产能与供应链保障 - 南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已投入使用，保障了销售快速增长 [2] - 持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定与安全，设备交付率保持较高水准 [2] - 设备的及时交付为公司销售增长提供了有力支撑 [2]