投资评级与估值 - 投资评级为买入（维持）[5] - 预计公司2025-2027年归母净利润分别为23.25亿元、31.44亿元、42.21亿元，同比增速分别为43.90%、35.23%、34.27%[9][12] - 当前股价对应的2025-2027年PE分别为82.44倍、60.96倍、45.40倍，低于同行业可比公司2025年平均估值102.36倍[9][12] 核心观点与投资逻辑 - 中微公司是国内半导体高端装备龙头，核心产品技术领先，刻蚀设备累计装机量行业领先，CCP刻蚀设备累计装机超4500个反应台，ICP刻蚀设备累计装机接近1200个反应台[6] - 研发与团队优势显著，2024年研发人员达1190人，占员工总数47.98%，硕博占比54.71%，2025年上半年研发投入增至14.92亿元，同比增长53.70%，占营业收入30.07%[7] - 公司通过大规模股权激励绑定核心人才，2024年激励覆盖1798人，2025年计划授予不超过1200万股限制性股票，考核目标锚定营收增速[7] - 受益于全球半导体设备千亿美元市场规模及国产替代趋势，刻蚀设备作为核心环节，2024年全球市场规模预计为256.1亿美元，2024-2029年CAGR预计为7.6%[8] 公司业务与财务表现 - 2025年上半年实现营业收入49.61亿元，同比增长43.88%，归母净利润7.06亿元，同比增长36.62%[7] - LPCVD设备收入同比激增608.19%至1.99亿元，新品放量推动增长[7] - 公司现金储备充裕，2024年末期末现金及现金等价物余额达56.55亿元，同比增长59.84%[38] - 业务结构以专用设备销售为主，2024年占比78.12亿元，配套备品备件及服务收入为补充[38] 产品与技术优势 - 刻蚀设备产品线完善，CCP与ICP协同发展，Primo HD-RIE e等高端机型获重复订单[42][45][47] - MOCVD设备在氮化镓基领域全球领先，PRISMO UniMax机型主导高端Mini-LED显示外延片市场，并积极拓展功率器件应用[52][53] - 薄膜沉积设备已推出6款产品，钨系列覆盖存储与逻辑关键应用，金属栅系列性能达国际先进水平，独创方案实现60:1深宽比填充突破[56] 行业前景与公司战略 - 全球半导体设备市场持续高景气，AI、5G、3D NAND等技术驱动刻蚀工艺复杂度与设备需求提升，3D NAND向千层堆叠演进放大高深宽比刻蚀设备价值[60][61][68][69] - 公司践行三维立体发展战略，南昌、上海临港基地已投产，广州、成都基地规划落地，支撑未来产能扩张[22] - 中国大陆半导体设备国产化率快速提升，公司作为国产刻蚀设备领军者，有望持续受益于国内晶圆厂扩产[8][67]