中微公司(688012):刻蚀业务稳健增长、薄膜业务加速放量

投资评级 - 维持“买入”评级 [6] 核心观点 - 公司2025年业绩符合预期,实现营业收入约123.85亿元,同比增长36.62%,归母净利润约21.11亿元,同比增长30.69% [6] - 刻蚀设备主业维持稳健增长,2025年实现销售98.32亿元,同比增长35.12%,收入占比约79.39%,是核心收入来源 [6] - 薄膜业务(LPCVD及ALD设备)增速显著快于整体,2025年实现销售5.06亿元,同比大幅增长224.23%,收入占比从2024年的1.72%提升至4.09% [6] - 先进逻辑制程推进与高层数3D NAND演进提升工艺复杂度,推动单线设备投入强度与可服务市场持续扩张,有望提升公司中期业绩增长上限 [6] - 公司在刻蚀和薄膜两条核心工艺主线上已切入关键制程并形成批量应用基础,具备较强稀缺性与成长弹性 [6] 财务数据与预测 - 营业收入预测:预计2025-2027年分别为123.85亿元、162.03亿元、206.31亿元,同比增长率分别为36.6%、30.8%、27.3% [5] - 归母净利润预测:预计2025-2027年分别为21.11亿元、31.58亿元、42.78亿元,同比增长率分别为30.7%、49.6%、35.4% [5][6] - 盈利能力指标:预计毛利率2025-2027年分别为41.8%、42.7%、42.7%;ROE分别为9.7%、12.6%、14.6% [5][8] - 估值水平:基于2026年3月2日收盘价349.14元,对应2025-2027年市盈率(PE)分别为103.5倍、69.2倍、51.1倍 [5][6] 业务分析 - 刻蚀业务:逻辑制程由7nm向5nm及以下演进,3D NAND向200+层及多deck结构发展,带动单晶圆工艺步数及对应设备可服务市场(SAM)提升至约1.7–2.0倍 [6] - 刻蚀业务:公司在先进逻辑关键刻蚀及存储超高深宽比刻蚀环节实现稳定量产,CCP覆盖高深宽比需求;面向下一代逻辑与存储的ICP及化学气相刻蚀设备已具备单原子级加工精度 [6] - 刻蚀业务:截至2025年底,公司反应台累计装机超7,800台,覆盖170余条芯片及LED产线 [6] - 薄膜业务:产品已覆盖先进存储与逻辑器件的多款LPCVD、ALD设备,近两年新开发十余种薄膜设备并部分实现量产出货,LPCVD累计出货超300个反应台 [6] - 薄膜与外延业务:硅及SiGe EPI设备进入量产验证,减压EPI向先进制程延伸;在化合物半导体及显示领域,保持GaN基MOCVD设备领先地位,并布局SiC、GaN功率器件及Micro-LED方向 [6] - 研发投入:2025年研发投入约37.44亿元,同比增长52.65%,研发费用率为30.23% [6] 市场与财务数据 - 市场数据(2026年3月2日):收盘价349.14元,一年内股价最高/最低为379.00元/164.88元,市净率(PB)为10.2倍,流通A股市值为21,861.2百万元 [2] - 基础数据(截至2025年9月30日):每股净资产34.3元,资产负债率28.02%,总股本/流通A股为626百万股 [2]

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