报告投资评级 - 买入（维持） [6] 报告核心观点 - 公司2025年业绩符合预期，刻蚀设备主业稳健增长，薄膜业务加速放量，产品矩阵持续延伸[1][6] - 先进逻辑制程推进与高层数3D NAND演进提升工艺复杂度，推动单线设备投入强度与可服务市场持续扩张，有望提升公司中期业绩增长上限[6] - 公司在刻蚀和薄膜两条核心工艺主线上已切入关键制程并形成批量应用基础，受益路径清晰，具备较强稀缺性与成长弹性[6] 财务数据及盈利预测 - 营业总收入：预计2025E为123.85亿元，同比增长36.6%；2026E为162.03亿元，同比增长30.8%；2027E为206.31亿元，同比增长27.3%[5] - 归母净利润：预计2025E为21.11亿元，同比增长30.7%；2026E为31.58亿元，同比增长49.6%；2027E为42.78亿元，同比增长35.4%[5] - 每股收益：预计2025E为3.37元/股；2026E为5.04元/股；2027E为6.83元/股[5] - 毛利率：预计2025E为41.8%，2026E为42.7%，2027E为42.7%[5] - 净资产收益率：预计2025E为9.7%，2026E为12.6%，2027E为14.6%[5] - 市盈率：对应2025E为103.5倍，2026E为69.2倍，2027E为51.1倍[5] 业务分析 - 刻蚀设备：2025年实现销售98.32亿元，同比增长35.12%，收入占比约79.39%，为公司核心收入来源[6] - 逻辑制程由7nm向5nm及以下演进，3D NAND由100+层向200+层、由单deck向双/三deck发展，带动单晶圆工艺步数及对应设备可服务市场提升至约1.7–2.0倍[6] - 公司在先进逻辑关键刻蚀及存储超高深宽比刻蚀环节实现稳定量产，CCP覆盖高深宽比需求；面向下一代逻辑与存储的ICP及化学气相刻蚀设备已具备单原子级加工精度与重复性[6] - 截至2025年底，公司反应台累计装机超7，800台，覆盖170余条芯片及LED产线[6] - 薄膜设备：2025年LPCVD及ALD设备实现销售5.06亿元，同比大幅增长224.23%，收入占比由2024年的1.72%提升2.36个百分点至4.09%[6] - 已覆盖先进存储与逻辑器件的多款LPCVD、ALD设备，近两年新开发十余种薄膜设备并部分实现量产出货，LPCVD累计出货超300个反应台[6] - 硅及SiGe EPI设备进入量产验证，减压EPI向先进制程延伸[6] - 化合物半导体及显示领域：保持GaN基MOCVD设备领先地位，布局SiC、GaN功率器件及Micro-LED方向，部分新品进入验证阶段，SiC外延及红黄光LED设备已付运客户端验证[6] 研发投入 - 2025年研发投入约37.44亿元，同比增长52.65%，研发费用率为30.23%[6]