投资评级 - 维持公司“增持”评级 [3] 核心观点 - 拓荆科技在SEMICON China 2026展会发布四大系列新品，性能优异，有望提升其在先进制程领域的核心竞争力 [1] - 公司依托在薄膜沉积及先进键合设备领域的技术突破与规模化量产，先进制程领域核心竞争力显著提升，2025年营收与净利润实现大幅增长 [2] - 公司通过募投项目扩充产能，在手订单充裕，为新增产能消化提供保障，预计随着产能释放将持续受益于国产化带来的业绩增量 [3] 新品发布与产品进展 - 发布两款原子层沉积（ALD）新品，性能先进，满足高产能需求并具有优异的坪效比和成本（CoO） [1] - 发布PECVD新品，应用领域包括先进逻辑后道层低介电薄膜，并兼容逻辑≤28nm后道层间低介电薄膜，实现介质薄膜的“低”介电常数和“高”机械强度 [1] - 发布Gap-fill系列产品，应用于先进存储与先进逻辑制程中的图形传递修饰、刻蚀阻挡层及图形平坦化处理环节，拥有业界最高的坪效比和最低的成本（CoO） [1] - 发布3D IC系列新品，涵盖熔融键合、激光剥离等多款产品，聚焦先进逻辑芯片Chiplet异构集成、三维堆叠及HBM相关应用 [1] - 2025年，基于新型设备平台和反应腔的PECVD Stack（ONO叠层）、ACHM以及PECVD Bianca等先进制程机台通过客户验证并实现产业化放量 [2] - 应用于先进存储领域的PECVD OPN、SiB等先进工艺设备通过客户验证 [2] - ALD多种工艺设备通过客户验证，其收入同比实现大幅度增长，产业化进程显著加速 [2] - 混合键合设备持续拓展客户群体，收入保持高速增长趋势 [2] 财务表现与预测 - 2025年公司营业收入约65.19亿元，同比增长约58.87% [2] - 2025年归母净利润约9.29亿元，同比增长约35.05% [2] - 预测2025年归母净利润为9.29亿元（较此前预测下修11%） [3] - 预测2026年归母净利润为16.44亿元（较此前预测上调20%） [3] - 预测2027年归母净利润为24.87亿元（较此前预测上调39%） [3] - 预测2026年营业收入为85.55亿元，同比增长31.23% [4] - 预测2027年营业收入为107.49亿元，同比增长25.65% [4] - 预测2026年归母净利润增长率为76.99%，2027年为51.27% [4] - 预测毛利率将从2025年的45.0%提升至2026-2027年的46.0% [11] - 预测摊薄ROE将从2025年的15.14%提升至2026年的21.37%和2027年的24.79% [11] 产能与订单情况 - 公司向特定对象发行股票募集46亿元，其中15亿元用于高端半导体设备产业化基地建设项目 [3] - 该募投项目预计2028年建设完成并投产，达产后公司薄膜沉积设备产能将达800台（套） [3] - 截至2025年9月30日，公司产品已投入超过70条芯片制造生产线，累计出货反应腔已超过3000个 [3] - 应用于先进制程领域的高性能反应腔占比不断提高 [3] - 截至2025年9月30日，公司设备在手订单金额为107.14亿元 [3] 市场与估值数据 - 当前股价为377.00元 [5] - 总股本为2.82亿股，总市值为1064.44亿元 [5] - 过去一年股价最低为138.37元，最高为407.70元 [5] - 近3个月换手率为122.50% [5] - 基于预测，2025年对应市盈率（P/E）为114倍，2026年降至65倍，2027年进一步降至43倍 [4] - 基于预测，2025年对应市净率（P/B）为17.3倍，2026年降至13.8倍，2027年降至10.6倍 [4]