据国外媒体报道称， 近日ASML CEO接受媒体采访时表示，中国早已研发国产光刻设备。 在这位CEO看来，尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走，但美国出台的打压措施只会适 得其反，让中国"更努力取得成功"。他还称，与其打压中国等竞争对手，不如将注意力放在创新上。 来源：快科技 在这之前，中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光，可发射193nm的相干光，与目前 主流的DUV曝光波长一致，能将半导体工艺推进至3nm。 加入"中国IC独角兽联盟"，请点击进入 中国科学院的这种技术最终获得的激光平均功率为70mW，频率为6kHz，线宽低于880MHz，半峰全 宽(FWHM)小于0.11pm(皮米，千分之一纳米)，光谱纯度与现有商用准分子激光系统相当。 投稿 、 商务合作 请微信 dolphinjetta 基于此，甚至可用于3nm的工艺节点。 是说芯语，欢迎关注分享 这种设计可以大幅降低光刻系统的复杂度、体积，减少对于稀有气体的依赖，并大大降低能耗。 相关技术已经在国际光电工程学会(SPIE)的官网上公布。这种全固态DUV光源技术虽然在光谱纯度上已 经和商用标准相差无几，但是输出功率、频率都 ...