为现代芯片制造商打造强大、可靠且可制造的光源是当今业界最复杂的挑战之一。在所有光刻系统制 造商中，只有 ASML 成功研发出用于打印最小芯片特征的 EUV 光源——但一家初创公司却提出了 一个颠覆现状的全新理念。 Inversion Semiconductor是一家位于旧金山的初创公司，由风险投资公司 Y Combinator 投资。该 公司计划开发一种基于紧凑型粒子加速器的光源，声称其功率将比 ASML 现有技术高 33 倍，可以 为生产更精细的芯片特征铺平道路。 Inversion技术的核心是一种"台式"粒子加速器，它比传统粒子加速器小 1,000 倍，但输出功率却高 达 10 kW。尽管尺寸微小，但 Inversion 声称，其光源利用激光尾流场加速 (LWFA ) 方法，可以将 芯片制造速度提高 15 倍（假设一个 10 kW 光源为一个光刻系统供电），或者同时为多个芯片制造 工具供电，从而降低成本。 来源：内容编译自 tomshardware 。 图片来源：反转光刻技术 公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 Y-Combinator 支持的初创公司着眼于强大的激光尾场加速器，以实现先进的光 ...