台积电2纳米制程泄密事件 事件概述 - 台积电2纳米制程技术遭内部员工泄密，上千张机密照片外流至日本半导体公司Rapidius股东TEL [2] - 涉案人员包括1名离职转任TEL的陈姓工程师及2名在职吴姓工程师，通过手机拍摄屏幕方式窃取资料 [2][7] - 泄密行为持续约1年，双方在竹科星巴克交接资料，检调监控后于咖啡店逮捕部分涉案人员 [2][3] 泄密手法与发现过程 - 涉案工程师利用居家办公配发的内网笔电，以手机直接拍摄屏幕（照片含反光痕迹）而非下载档案，规避系统监测 [2][3] - 台积电通过内网监控发现异常：工程师频繁在3分钟内登入查看2纳米机密资料，且职级与访问权限不匹配 [3][7] - 公司反向追踪登录记录锁定9名可疑员工，其中3人因拍摄700多张、300张及大量试产资料被开除并移送法办 [3][7] 涉案人员背景 - 主嫌陈姓工程师为国立大学硕士，曾在台积电任职8年，参与5/3纳米缺陷改善部门，2022年底被TEL挖角 [7][8] - 其他涉案工程师多为国立大学硕士背景，部分属20厂2纳米试产团队或研发中心人员 [7] - TEL涉事主管同样有台积电任职经历，显示行业挖角竞争激烈 [8] 法律与行业影响 - 若泄密行为涉及组织性颠覆，涉案者最高可判无期徒刑（原营业秘密罪刑期约5年） [4] - 事件冲击台积电形象与客户信任，但短期内因先进制程供应商稀缺，订单暂未受影响 [4] - 行业人士指出竞争对手试图通过窃密追赶技术差距，凸显台积电半导体领先地位 [5] 公司内部管理措施 - 台积电设有机密保护单位PIP，实施资料分级管理、定期稽核与员工培训 [4] - 事件暴露居家办公资安漏洞，公司需加强新进员工教育及内网监控机制 [5][7] 政府与行业呼吁 - 要求政府从法律、外交、技术三方面防堵机密外流，并向日本政府抗议求偿 [4][5] - 强调保护台积电技术等同于保护台湾核心竞争力 [5]