台积电2nm泄漏,给工程师的教训
台积电2纳米工艺泄密事件 - 台积电近期披露2纳米工艺技术遭泄露 已向检察机关提起诉讼并导致三名工程师被单独拘禁 [2] - 涉案工程师均为台湾顶尖国立大学硕士毕业的年轻专业人士 涉嫌违反商业机密和国家安全法 [2] 泄密案件细节 - 案件涉及台积电尖端2nm技术 与一名现就职于东京电子(TEL)的前员工有关 东京电子是台积电重要供应商 通过Rapidus与日本2nm技术发展关系密切 [4] - 台积电于6月底启动调查 发现机密数据多次被传递给该前员工 该工程师毕业于新竹科学园区附近顶尖大学 曾在台积电工作近八年 负责5纳米和3纳米良率提升 [4] - 涉案工程师承认收集机密数据以提高设备性能 但坚称仅供内部使用 台积电发现其拍摄近千张2纳米工艺流程照片后提起正式诉讼 [4] 案件影响与行业现状 - 虽然无证据表明数据外泄 但行为已违反台积电PIP政策 公司采取严格法律行动以儆效尤 [5] - 案件特殊性在于涉案工程师仍在职 非跳槽前窃密 凸显半导体领域巨大压力 工程师可能为证明价值而窃取敏感数据 [5]