ASML光刻机交付预期与订单情况 - ASML预计到2027年将交付10套High-NA EUV光刻机和56套EUV光刻机 [1] - Intel将High-NA EUV光刻机订单从1套提高到2套，EUV光刻机订单从3套提高到5套 [1] - 三星将EUV光刻机订单从5套提高到7套 [1] - SK海力士在ASML 2027年EUV光刻机交付量中占20套，并将High-NA EUV光刻机订单从1套提高到2套 [1] - SK海力士计划在未来两年内安装20套EUV曝光机，全部用于HBM及先进存储解决方案 [1] High-NA EUV光刻机技术优势与性能 - Intel工厂的早期结果显示，High-NA EUV光刻机只需一次曝光和个位数处理步骤即可完成早期机器需三次曝光和约40个处理步骤的工作 [2] - 新光刻机能以更少曝光次数完成相同工作，从而节省时间和成本 [2] - High-NA EUV光刻机的效率、可靠性比上一代EUV光刻机有明显提升 [2] High-NA EUV光刻机物理规格与市场定位 - 一套High-NA EUV光刻机大小等同于一台双层巴士，重量达150吨，需分装在250个板条箱中运输 [2] - 装机预计需要250名工程人员、历时6个月才能完成 [3] - High-NA EUV光刻机售价高达3.5亿欧元（约合人民币27亿元）一台 [3] - High-NA EUV光刻机将成为全球三大晶圆制造厂实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器 [3] 行业需求驱动因素与趋势 - 人工智能浪潮带动半导体产业发展，AI半导体普遍采用最新半导体制造技术，推动对ASML产品的长期需求 [1] - 尽管部分半导体制造商延后引入新一代High-NA EUV光刻机，但市场对曝光设备的需求整体仍处于上升趋势 [1]