文章核心观点 - 公司通过关键技术革新，成功将其最先进极紫外光刻设备的峰值功耗大幅降低了44% [1] - 此项能效提升是公司实现2050年净零排放目标的关键一步，并为整个半导体产业链树立了新的能效标杆 [3] - 核心制造设备的能效提升对全行业的减排目标至关重要，公司将继续投资绿色制造技术研发 [5] 技术突破细节 - 能效的飞跃性提升源于设备协同优化、光源转换效率以及系统运行模式上的深度创新 [3] - 优化是在不牺牲光刻精度和产能的前提下，实现了设备在峰值运行时的功耗显著下降 [3] - 此项技术将直接应用于公司最新的制程工艺 [3] 能耗背景与影响 - 一台先进极紫外光刻机全力运转下，每小时耗电量大约在1到1.5兆瓦时 [7] - 单台设备日耗电量约在24,000至36,000度电之间，相当于1200到1800个中国普通家庭一天的用电总和 [7][8] - 以中间值1.25兆瓦/小时计算，降低44%功耗后，单台设备每小时可节省约0.55兆瓦电力，日节省约13,200度电 [11] - 对于拥有数十台极紫外光刻机的庞大生产线，此项改进每年节省的电力将是数亿度级别 [11] 行业意义与公司承诺 - 半导体制造业是全球能源消耗增长最快的行业之一，制造设备能耗占芯片总碳足迹的相当大部分 [5] - 公司已承诺到2050年实现全球运营100%使用可再生电力并达到净零排放 [5] - 公司此举将有效降低下游产品的碳足迹，强化其客户产品的市场竞争力 [3]