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EUV光刻机,正在被颠覆?

公众号记得加星标⭐️,第一时间看推送不会错过。 令人惊讶的是,芯片制造行业其实极易受到颠覆性变革的影响。现有企业的技术决策往往受惯 性驱使,"我们一直都是这么做的"。他们最害怕的就是技术倒退。就连晶圆厂照明颜色这样简 单的事情都无法改变:尽管晶圆厂会告诉你,传统的黄色灯光不会对光刻胶造成任何影响,但 光刻生产线上仍然在使用这种灯光。 近年来,这种情况愈演愈烈。尽管芯片规模扩张速度放缓,成本却迅速上升,芯片制造商仍在不断迭 代现有技术。ASML 的路线图上有一款名为 hyper-NA 的工具,他们甚至公开承认该工具可能不具 备经济可行性!但很难责怪这些公司——这些工具和晶圆厂能带来巨额利润。一台售价 2.25 亿美元 的 EUV 光刻机,一年就能生产价值超过 6.5 亿美元的完整晶圆(需要注意的是,生产这些晶圆除了 EUV 光刻机本身的成本外,还会产生许多其他成本)。 因此,现有企业几乎没有动力改变策略。 但这给那些有受虐倾向、大胆无畏、不畏艰难的创新者留下了机会……Substrate 应运而生。在昨天 的文章 《一个辍学生,同时挑战ASML和台积电》 中,我们对此进行了讨论,今天,我们对这个路 径的实现可行性 ...