公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 两家公司似乎都对纳米压印光刻技术感兴趣，但它们的工厂都是按照光刻设备设计的，这给生产方式 的转变设置了很高的障碍。纳米压印设备必须具备令人信服的经济效益才能得到广泛应用。 佳能和尼康曾经主导着全球光刻设备市场。但ASML赢得了小型化竞赛，现在占据了90%的市场份 额。 据《日经新闻》报道，日本大日本印刷株式会社（DNP）开发出一种技术，有望将先进半导体的制造 能耗降低 90%，这一举措有望大幅降低人工智能芯片的制造成本。 大日本印刷株式会社计划于 2027 年开始批量生产一种模板材料，该材料可用于使用佳能芯片制造设 备制造尖端的 1.4 纳米芯片。 制造此类尖端芯片现在需要极紫外（EUV）光刻设备，而这种设备目前只有荷兰公司ASML Holding 生产。在晶圆上形成电路的光刻工艺占芯片制造总成本的30%到50%。 电路尺寸越小，需要使用的紫外光次数就越多，从而导致功耗增加。EUV光刻设备单价高达数亿美 元，这进一步加重了芯片制造商面临的沉重投资负担。 日本佳能公司生产半导体光刻机，该公司还拥有纳米压印芯片制造设备，该设备通过将电路压印到晶 圆上来制造电路。 人 ...