行业格局与竞争态势 - 佳能于2011年进入后工序光刻设备市场 目前几乎垄断了半导体巨头使用的后工序光刻设备[2] - 阿斯麦在前工序光刻设备领域占绝对优势 其涉足后工序对佳能构成了威胁[2][6] - 尼康也计划在2027年3月之前推出后工序光刻设备 加入该领域的竞争[6] - 在先进封装领域 台积电 英特尔 三星电子等半导体制造商竞相开发技术 并在中间基板的大小 材料 设计方法等方面展开开发竞争[7] 市场趋势与需求驱动 - 为了提高最尖端半导体的性能 后工序的重要性日益突出[2] - 面向AI的半导体中 “先进封装”技术正逐渐普及 这推动了后工序光刻设备市场的扩大[4] - 先进封装中的“3D堆叠”技术比平面连接芯片的方式更能缩短布线长度 可使功耗最多减少一半 同时提升单个芯片的处理能力[7] - 随着芯片数量增加 用于承载芯片的中间基板也在变大 未来预计将更多采用从浪费更少的大型方形基板切割的方式[7] 主要参与者动态与技术路径 - 阿斯麦已于2025年9月前开始出货专用于先进封装的光刻设备 并已交付给全球领先的半导体企业[4] - 阿斯麦开始供货的“XT:260”设备 其生产效率是前工序用光刻设备的4倍 且能处理更厚的基板 减少基板翘曲问题[6] - 佳能的后工序设备采用转印原有电路图案的“光掩模”方式 尼康则计划采用无需掩模的“数字曝光”技术[6] - 在后工序设备的推动下 佳能2025年的光刻设备销量达到241台 5年内几乎翻了一番[6] - 除光刻设备外 松下控股也开发了垂直堆叠芯片的设备以满足AI半导体需求 计划2027年销售[7] 技术挑战与行业特点 - 与前工序不同 后工序技术开发的方向尚未明确 设备厂商需要具备捕捉行业趋势和需求的能力[7] - 后工序光刻设备的关键在于能否解决后工序特有的需求 例如处理基板翘曲等问题[6]