政府监管程序简化 - 韩国政府决定简化引进极紫外（EUV）光刻设备所需的安全许可程序，该设备是生产7纳米及以下高级半导体的关键工具 [1] - 现行程序下，将EUV设备运入韩国需要15天，因其使用少量高压气体需根据《高压气体安全管理法》接受技术检验，而美国、台湾等地区无此程序 [1] - 韩国产业通商资源部计划在今年上半年修订《高压气体安全管理法》实施细则，将EUV设备单独列为“特定设备”并采用更短检查方法，预计检查时间将缩短至两天以内 [2] 行业诉求与影响 - ASML韩国分公司负责人在由总统主持的会议上，要求改进监管规定，以使韩国半导体制造商能与海外竞争对手公平竞争 [1] - ASML韩国总裁指出，在海外，安全检查按国际标准在企业内部进行后设备即可安装运行，而在韩国，新设备安装、升级或搬迁均需经历文件、中期和最终检查 [2] - 业内人士认为EUV设备应完全排除在高压气体法规适用范围外，韩国半导体产业协会执行董事表示，即便法规放宽，企业仍需遵守一项海外不存在的规定 [2] 事件背景与进展 - ASML是全球最大且唯一一家EUV光刻设备出口商，其韩国总裁在去年12月由总统主持的“人工智能时代、韩国半导体愿景和发展战略简报会”上提议简化相关安全许可规定 [1] - 韩国产业通商资源部部长回应称，该规定被视为不必要，但既然存在，部门将采取行动进行改进 [2]