半导体设备行业格局 - 半导体设备市场主要由海外企业控制，晶圆厂议价空间有限[1] - 地缘政治和地方保护主义促使各地区加速发展本土半导体设备产业[1] - 中国半导体设备产业面临机遇与挑战并存[22] 新凯来公司概况 - 成立于2022年，总部位于深圳，在国内外设有多处研发中心[2] - 构建了"基础材料工艺-零部件-装备"的端到端研发体系[2] - 目标成为世界一流半导体装备提供商[2] - 已建立10多个基础LAB，包括等离子体、热管理、流体控制等领域[9] 半导体工艺演进挑战 - 晶体管架构从Planar到FinFET再到GAA演进，带来制造工艺新挑战[3] - 先进工艺面临EPI、ETCH、CVD、PVD、ALD等多领域技术难题[5][6] - 解决方案包括新材料、先进光刻+非光补光、3D架构三大路径[7] - 非光补光技术(如多重曝光、自对准)因光刻机禁运而尤为重要[7] 新凯来技术布局 - 在系统架构、硬件、器件和算法方面全面布局[8] - 开发了从原子物理模型到腔式化学反应模型的仿真软件[7] - 注重射频源、滤波器等底层硬件研发[7] - 采用"一代工艺，一代材料，一代装备"的设计理念[9] 产品发布成果 - 在Semicon China发布四大类约30款设备[10] - 扩散类：EPI"峨眉山"系列3款、RTP"三清山"系列3款[11][13][14] - 刻蚀类："武夷山"系列3款(1号MASTER、3号、5号)[16] - 薄膜类：PVD"普陀山"3款、ALD"阿里山"3款、CVD"长白山"2款[17][20][21] - 量检测类：涵盖光学、物理、X射线等多领域设备[21] 产品技术特点 - EPI设备采用创新架构，支持逻辑及存储外延应用[13] - RTP设备具备精准温度控制和等离子体控制能力[13] - 刻蚀设备采用全对称架构设计，满足先进节点需求[16] - ALD设备具备创新架构，支持高深宽比金属栅极沉积[21] - 量检测设备已陆续量产或进入客户端验证[21]