科研设备采购趋势 - 2024年11月国内多所单位集中启动高精度光刻设备采购 涵盖无掩膜直写 接触式曝光及双光子三维直写等前沿技术路线 [2] - 采购活动反映出科研与产业领域对微纳加工能力提升的持续需求 [2] 主要采购项目详情 - z ycgr22011903单位发布自动型接触式光刻机采购项目 预算达1020.78万元 为本次预算最高的采购项目 提供完整接触式光刻解决方案 [3][4] - 南京大学拟采购无掩膜激光直写光刻机一套 预算180万元 主要用于硅基晶圆及功能膜层的亚微米图形化加工 [6][7] - 中国科学院高能物理研究所采购双光子三维激光直写光刻机 预算125万元 专注于三维微纳结构加工能力 适用于复杂三维器件的直写制造 且不接受进口设备 [9]