3μm短波低反射膜系

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安徽光智申请 3μm 短波低反射膜系的制备方法专利,制备特定膜系
金融界· 2025-05-05 18:43
公司专利技术 - 安徽光智科技有限公司申请了一项名为"3μm短波低反射膜系的制备方法"的专利,公开号为CN119913460A,申请日期为2025年1月 [1] - 专利涉及锗基底2-2.3μm短波低反射膜系的制备方法,包括镜片清洁、工装夹具安装、真空抽气、离子源清洗、多层膜镀制等步骤 [1] - 膜系镀制顺序为34.8nmSiO/64.3nmGe/52.2nmZnS/272.8nmSiO,采用电子束加热蒸发SiO和Ge膜层,电阻加热蒸发ZnS膜层 [1] - 各膜层沉积速率分别为SiO 0.6nm/s、Ge 0.3nm/s、ZnS 0.8nm/s,采用离子源辅助沉积技术 [1] 公司基本情况 - 安徽光智科技有限公司成立于2018年,位于滁州市,主要从事计算机、通信和其他电子设备制造业 [2] - 公司注册资本达9亿人民币,对外投资5家企业,参与招投标项目80次 [2] - 公司拥有商标信息20条,专利信息816条,行政许可43个,显示出较强的研发能力和知识产权积累 [2]