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一场知识挑战赛,打开ASML的“全景光刻”黑科技宇宙
半导体行业观察· 2025-06-27 09:20
ASML全景光刻技术生态 - 公司构建了覆盖光刻全流程的软硬件协同系统,包括光刻机台、光罩优化、光学对准、计算光刻、缺陷检测及晶圆厂工艺协同[1] - 技术体系由硬件模块、软件平台与优化算法共同支撑,形成完整的光刻解决方案[1] - 代表的不单是设备制造商,而是光刻领域的技术生态系统[2] 计算光刻技术 - 计算光刻通过模型和算法预测并修正图形偏差,成为现代光刻的"数字大脑"[5] - 采用人工智能技术优化工艺参数组合,提升光刻质量并缩短开发时间[9] - 光学邻近效应校正(OPC)技术通过调整主体图案或添加辅助图形补偿光学干涉[6] - 解决Sbar辅助图形异常曝出需考虑主体图案影响并进行整体优化[9] 电子束检测技术 - 电子束显微镜技术通过三级静电透镜系统实现电子束精确控制[11] - 等势线分布决定电子轨迹精度,影响成像分辨率[12] - 公司电子束检测平台可识别亚纳米级缺陷,检测精度超越传统光学方法[13] - 系统通过多级透镜调控、信号捕获和图像处理算法实现自动缺陷分类[13] 光刻机核心模组 - 投影物镜、光源系统和晶圆平台构成光刻工艺的"物理骨架"[15] - 采用双晶圆台设计实现曝光与预对准并行,提升生产效率[20] - 照明光学模组采用多镜片设计,实现4:1或5:1图案缩比投影[18] - 光罩模组结合气浮技术、真空夹持和激光干涉仪,定位精度达纳米级[18] 环境控制系统 - DUV传感器实时监测温度、湿度、振动等环境参数[22] - 多点高度检测系统通过误差模型校正测量结果,控制硅片表面平整度[22] - TWINSCAN平台采用闭环控制系统实现毫秒级环境调整[23][26] - 集成算法和高精度执行机构确保纳米级工艺控制[26] 技术活动 - 公司将于2025年6月20日举办「ASML杯」光刻知识挑战赛[3] - 赛事题目设计体现光刻技术核心挑战,如OPC校正、电子束控制等[6][11] - 活动旨在展示光刻技术全貌并吸引技术人才参与[28][29]
光刻技术,走下 “神坛”
钛媒体APP· 2025-06-24 19:14
光刻技术重要性变化 - 英特尔高管提出"光刻将不再那么重要"的观点引发业界争议 [1] - High-NA EUV光刻机面临滞销,多家芯片巨头对其实用性持保留态度 [1][3] - 随着3D晶体管结构发展,刻蚀技术重要性提升至制造环节50%以上 [7] High-NA EUV光刻机应用现状 - ASML已交付两台TWINSCAN EXE:5000系统,分别由imec和英特尔接收 [1] - 英特尔计划用High-NA EUV开发1.8nm和1.4nm工艺,当前季度产能达30000片晶圆 [4] - 台积电认为High-NA EUV大规模应用需5年以上,A16/A14工艺仍采用标准EUV [5] - 三星推迟DRAM产线应用计划,逻辑芯片领域评估1.4nm工艺2027年量产 [6] 刻蚀技术崛起 - 5nm FinFET工艺中刻蚀次数超过150次 [7] - GAAFET和CFET结构要求"从各方向包裹栅极",横向材料去除成为关键 [7] - Lam等刻蚀设备公司作用将增强,但光刻机仍保持基础性地位 [8][9] ASML市场表现与技术路线 - 2024年出货418台光刻机(44台EUV/374台DUV),中国大陆贡献36.1%收入(101.95亿欧元) [10] - 正在研发0.75 NA的Hyper NA EUV系统,可提升打印速度和精度 [10][11] - 当前EUV技术预计主导市场10-20年,控制全球75%-80%份额 [13] 新兴光刻技术发展 - EUV-FEL技术可支持10-20台设备并联,美国Xlight公司计划2028年推出原型 [13][14] - Lace Lithography开发原子光刻技术,宣称分辨率领先EUV 15年 [14] - 纳米压印和电子束光刻在小批量高精度领域取得进展 [15][16]
ASML的奇迹,从这个破棚子开始
半导体行业观察· 2025-03-21 09:08
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 来源:内容编译自tomshardware,谢谢。 ASML 是全球无可争议的先进芯片制造设备设计和供应商。台积电、英特尔和三星等行业巨头制造 最先进的半导体时,高度依赖这家 1984 年成立的荷兰公司的设备。然而,与科技界许多家喻户晓的 品牌一样,ASML 的起源相当低调。就 ASML 而言,公司传说这一切都始于一个"漏水的棚子"。 当今光刻机领域的霸主 ASML(先进半导体材料光刻技术公司)最初是由电子行业家喻户晓的飞利 浦公司和先进半导体材料国际公司(ASMI)合作成立的。双方的愿景是成立一家专注于光刻系统的 新公司,而这两家公司都认为这是一个不断增长的市场。 值得庆幸的是,ASML 和所有来自漏水棚的员工们,不久之后,业务就蓬勃发展起来,并于 1985 年迁至专门建造的办公室和工厂。一年后,改进后的 PAS 2500 上市,并成为许多未来机器的基 础。巧合的是,ASML 与镜头制造商卡尔蔡司的合作关系在此时签署,并持续至今。 20 世纪 90 年代,ASML 宣布推出其"突破性平台",即 PAS 5500。凭借这一成功,ASML 在阿姆 斯特丹和纽约证券交易所成 ...