泽攸科技无掩膜光刻机产品介绍 - 公司ZML系列无掩膜光刻机是一种基于DMD（数字微镜阵列）的显微投影光刻设备，使用DMD作为数字掩模版替代传统掩模版 [6] - 该技术可实现快速、灵活的光刻图案设计，并能进行传统的二维光刻以及8位的灰度光刻 [7] - 设备可实现在感光材料上的高精度曝光，形成所需细微图形，满足任意微米量级的光刻需求 [6][7] - 该技术可广泛应用于MEMS、微流控、二维材料、超导结构、生物技术等多个领域 [7] 产品应用与客户案例 - 设备在实验室层面提供了从原型设计到微结构制备，再到性能验证的完整闭环，具备很高的教学示范价值 [11] - 电子科技大学展示如何利用该设备将复杂设计蓝图变为现实的微纳结构，重点展示了自动化技术如何提升工艺的一致性与可靠性 [9] - 中科院物理所介绍了其使用体验，并对比了其他光刻机，同时展示了在二维材料和薄膜材料中开展的课题 [11] - 松山湖材料实验室提及外延生长是获得高质量单层二硫化钼（MoS₂）薄膜的主流技术，并已在4英寸晶圆规模上得到验证 [13] 市场活动与推广 - 公司计划于2025年10月31日14:00-16:30举办DMD无掩膜光刻机操作演示直播活动 [3][16] - 直播活动内容包括主要硬件模块介绍、样品准备和放置、软件模块和功能介绍、图形导入和光刻操作以及结果展示 [5] - 公司同时开展免费样品测试招募活动，征集不限领域的光刻需求方案，并计划挑选10位有代表性的方案提供免费制样服务 [16]