文章核心观点 - 龙图光罩阐述了相移掩模版（PSM）相较于普通二元掩模版（BIM）的技术优势，并指出PSM是支撑90nm及更先进制程的关键技术，公司已在该领域具备成熟的技术积累和量产能力 [1] 技术原理与优势 - PSM通过在相邻透光区域引入180度相位差，利用光的干涉效应使中间暗区的光强抵消得更彻底，从而显著提升成像的对比度和分辨率 [1] - BIM仅通过透光与不透光的二元结构转移图形，其在相对高端制程中的物理极限会导致图形边缘光学干扰，影响精度 [1] - PSM尤其适用于线宽更小、密度更高的高端芯片制造 [1] 产品定位与市场应用 - PSM是支撑90nm及以下更先进制程的关键技术 [1] - PSM的设计和制造复杂度远高于BIM [1] 公司技术与业务进展 - 公司在PSM领域已具备成熟的技术积累和量产能力 [1] - 公司能够满足客户对高端节点的需求 [1]