公司专利技术进展 - 京东方华灿光电（苏州）有限公司于2025年4月申请微型发光二极管晶圆制备方法专利（公开号CN120529707A），涉及外延层制备、基准线刻蚀及曝光轨迹控制等半导体技术流程 [1] - 公司成立于2012年，注册资本150000万人民币，专注于化学原料和化学制品制造业，拥有566条专利信息和49项行政许可 [1] - 公司累计参与91次招投标项目，体现其在供应链和市场活动中的活跃度 [1] 行业技术发展动态 - 专利技术聚焦微型发光二极管晶圆制备领域，通过优化曝光轨迹与基准线刻蚀工艺提升半导体制造精度 [1] - 技术方案属于半导体技术领域，强调外延层处理与图形制备环节的创新性 [1]