公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 消息称，8月1日，璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备顺利通过 验收并交付至国内特色工艺客户。此次设备交付是公司业务拓展和市场渗透的新里程碑，标志 着璞璘科技在高端半导体装备制造领域迈出坚实的一步。 （图片来源：璞璘科技） 技术背景 1998年，美国工程院院士、化学放大光刻胶（Chemically Amplified Resist）发明人、光刻胶领域 泰斗级学者Grant Wilson教授团队基于喷墨涂胶工艺，创新性地将紫外光固化纳米压印技术与步进光 刻 技 术 相 结 合 ， 提 出 了 更 适 用 于 集 成 电 路 制 造 的 步 进 纳 米 压 印 光 刻 技 术 （ Step-and-Flash Nanoimprint Lithography），并创立Molecular Imprint Inc.公司推动该技术产业化。日本佳能公司 与Molecular Imprint Inc.建立战略合作关系后，共同开发半导体用步进纳米压印技术。2014年，佳 能完成对Molecular Imprint Inc.的收购，正式将纳米压印技术导入高 ...