ASML光刻机需求前景 - ASML的2纳米EUV光刻机未来5年可能面临需求疲软 台积电明确A16和A14工艺无需采用该设备[1][3] - 台积电副首席运营官证实A16工艺采用第二代GAA晶体管和新型架构 通过改良现有技术实现性能提升 无需2纳米光刻机[3] - A14工艺计划2028年量产 继续使用第一代EUV光刻机 晶体管密度提升20% 性能提升15%或功耗降低25%-30%[3] 台积电技术领先优势 - 台积电凭借工艺技术优势掌握先进制程定义权 可自主命名工艺节点(如A16/A14)而无需依赖光刻机代际[5] - 竞争对手三星3纳米工艺存在良率和密度问题 导致高通等客户流失 先进制程产能缩减[5] - Intel虽宣称A18工艺进展顺利 但管理层更迭(新任CEO陈立武3月上任)带来执行不确定性 历史上有工艺延期记录[5][7] 半导体行业竞争格局 - Intel前任CEO基辛格任内未能实现工艺反超目标 芯片代工业务亏损超百亿美元 市场份额被AMD蚕食(服务器市场丢近20%份额)[7] - 台积电占据全球先进制程垄断地位 美国芯片贡献其70%收入 客户缺乏替代选择[7][9] - ASML高端光刻机客户仅剩台积电/三星/Intel 台积电暂不采购导致设备积压 需等待5年后技术迭代需求[9]