以下文章来源于半导体前沿 ，作者亚化咨询 半导体前沿 . 半导体与材料：集成电路 (IC)、大硅片、晶圆制造、先进封装；市场、项目、技术、设备、产业园区。 - 琪材微，奕斯伟，南大光电、龙图光罩，晶瑞，彤程，芯上微，清溢光电，复旦大学，雅克，中导，珠海奕源，中科卓尔，住友， 御微，康宁 等齐聚上海，共商光刻胶光掩模行业进展 - 第3届光掩模与光刻胶技术论坛 将于 2026年4月24日 在 上海 召开 光掩模版（Photomask, 光罩，光掩模）是半导体制造过程中不可或缺的重要组件，在光刻工艺中用作高精度模板，用于将复 杂的电路图案转移到硅晶圆上。光罩技术的发展与半导体行业密切相关，随着集成电路（IC）的不断微缩和复杂化，光罩技 术也在不断进步。 亚化咨询在《中国光掩模市场研究报告2026》的基础上，研究了国际6大光掩模企业的最新进展，供中国的光掩模与空白掩 模版的企业和行业人士借鉴。 光罩行业由少数几家关键企业主导，每家公司都在光罩技术的不同领域占据重要地位。以下是亚化咨询跟进的几家国际企业 最新动态： 1. 泰克森光掩模 (Tekscend ，原凸版光罩 Toppan Photomasks ，日本） Te ...