全球光刻机市场竞争格局 - 全球光刻机市场由荷兰ASML、日本尼康与佳能、中国大陆上海微电子主导，ASML占据85%的市场份额，佳能约占10%，尼康占5%，上海微电子份额为0.2% [1] - ASML在2025财年上半年出货光刻机总计160台，其中EUV光刻机超过20台，而尼康同期仅售出9台光刻机，且主要为成熟制程设备 [1] - 中国市场是ASML的关键市场，贡献了其销售额的42% [11] 尼康的经营危机与自救举措 - 尼康预计2025财年将录得850亿日元亏损，创公司史上最大亏损纪录，公司解释部分原因为3D打印机业务拖累 [1] - 为应对危机，尼康已关闭运营58年的横滨工厂，标志着其光刻机业务进一步收缩 [1] - 公司将中国市场视为关键自救机会，在SEMICON China 2026展会上宣布将加大对中国市场投入，计划提供更高级的DUV设备，并推出二手设备销售和原厂升级服务 [1] 尼康光刻机业务衰落的历史内因 - 尼康在光刻机技术路线选择上出现重大战略失误，2002年拒绝了台积电林本坚提出的浸没式（浸润式）光刻技术方案，而当时公司已在157nm干式光刻机研发上投入超过7亿美元 [5] - ASML采纳浸没式技术并于2004年推出产品后迅速占领市场，直接夺走了尼康光刻机市场的半壁江山 [5][6] - 尼康虽然后来跟进并量产了用于7nm及以下制程的浸润式DUV光刻机（ARFi），但已错失技术先机，随着ASML推出EUV光刻机，尼康被逐步边缘化 [7] 尼康面临的外部环境与战略失误 - 日本政府主动加码对华半导体设备出口管制，2023年3月对23种设备（包括光刻机）实施管制，2024年4月进一步将GAAFET等先进技术纳入管制范围，限制了尼康在中国市场的拓展 [9] - 美国以国家安全为由，将尼康与佳能排除在由ASML、英特尔、三星、台积电等组成的EUV技术联盟之外，封锁了其获取顶尖EUV技术的通道 [10] - 尼康在外部主动制裁中国、内部又被美国技术封锁的双重作用下，导致其订单大量流向ASML [10] 尼康在中国市场面临的挑战与机遇 - 尼康认为其机会在于，公司部分光刻机未采用美国技术，因此在中国市场可能不受美国出口管制影响，拥有较大操作空间 [10] - 然而中国正全力推进光刻机国产化，国产设备如SSA600已能用于90纳米生产线，且日媒预测中国可能成为继荷兰、日本后第三个独立制造光刻机的国家 [12] - 有荷兰媒体爆料称中国已囤积足够使用5至10年的DUV光刻机，而5-10年后中国国产浸润式DUV光刻机大概率已实现量产，这压缩了尼康未来的市场机会 [12] - 尼康过往的行为使其难以获得中国市场的完全信任 [12]