光刻机的成像系统是半导体光刻技术的核心，其透镜（或反射镜）决定了光刻分辨率和成像质量 。193nm波段的AR膜一般采用 氟化物材料体系 （如MgF₂、LaF₃ 等）以保证低吸收和高激光损伤阈值。典型双层或多层AR镀膜可将193nm垂直入射残余反射降至0.1%以下。总之， DUV物镜以高纯石英和CaF₂透镜结合AR镀膜实 现高透过率 ； EUV物镜则以低热膨胀镜基配合Mo/Si多层膜实现高反射 ，两者材料体系截然不同。 2024年，晶圆曝光设备、光刻处理设备、掩模版制造设备合计市场规模约293.67亿美元 。随着2nm工艺导入，EUV光刻需求提升， 2025年光刻工艺相关设备预计达 312.74亿美元 。随着 AI、大数据、云计算等应用爆发性增长，服务器、数据中心及存储（Servers, Data centers& Storage）市场在 2025–2030 年预计将以9%的年复合 增长率攀升，同时半导体总销售规模有望突破1万亿美元大关。这一趋势 直接拉动DRAM制程的晶圆需求增长 ，特别是面向HPC/AI的DRAM产能投放显著提升，同 时， 先进逻辑（≤ 7nm）持续向更高性能与更低功耗设计演进，推动每片晶圆 ...

半导体行业发展逻辑 - 全球半导体器件销售额从1977年的38亿美金增长至2024年的6179亿美金，涨幅达162倍，同期全球GDP仅扩大至15.1倍 [1] - 半导体器件市场增速长期显著超越GDP增速，两者比例变化呈现三阶段特征 [3] 行业发展三阶段 - **暴增期（1977~1994）**：半导体产业初期填补市场需求空白，呈现井喷式增长 [5] - **稳定期（1995~2009）**：器件销售额占GDP比例稳定在0.45%，市场饱和，增速与GDP基本同步（除2000年IT泡沫） [5] - **增长期（2010以后）**：智能手机普及带动移动互联网发展，半导体市场增速再次大幅超越GDP [5] 半导体行业独特性 - **信息产业基座属性**：芯片是数据采集、传输、处理、存储的核心载体，信息量几何级增长推动需求持续扩张 [5] - **摩尔定律驱动**：芯片性能/性价比持续翻倍提升，技术迭代带动全产业链（如设备、材料）增长，例如ASML光刻机 [5] 第三阶段（2010~2020s）特征 - 移动互联网（3G/4G）推动数据量爆发，芯片需求聚焦更快处理能力、更大存储容量及更高通讯速度 [6] - 2010年后半导体市场规模保持6%年化增速，呈指数级增长 [6] - 设备市场及大硅片出货量（等效面积）同步增长，反映产能扩张与技术迭代 [7][8] 第四阶段：AI驱动的新增长 - AI算力芯片需求暴增导致器件销售额提升，但硅片出货面积未显著变化，表明增长主要依赖高端芯片单价提升 [10] - TSMC（先进工艺）与UMC（成熟工艺）营收分化，印证AI芯片对市场结构的重塑 [11] - 测试设备商爱德万销售额暴涨，反映下游设计公司扩产意愿强烈 [15] AI行业长期潜力 - 短期（2~3年）算力军备竞赛持续，大模型训练/推理需求维持高位 [14] - 长期AI应用落地（如Agent、智能驾驶、机器人）可能引发消费电子换机潮，带动全品类芯片需求 [16] - AI生成数据量将远超人类自发数据量，进一步放大芯片需求 [16]

纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机、人工智能、学前教育、电学检测、丁酮、智能输配电、电源模块、智能驾驶、生态环境、AI眼镜、固态设备、智能网联汽车、激光、医学、芯片、规划、军工装备、医药 - **公司**：波长光电、福晶科技、上海微电子、茂莱光学、腾景科技、永新光学、中润光学、晶方科技、清溢光电、冠石科技、路维光电、珂玛科技、炬光科技、旭光电子、美埃科技、蓝英装备、电科数字、汇成真空、奥普光电、芯碁微装、东方嘉盛、京华激光、同飞股份、直真科技、华丰科技、创益通、金信诺、因赛集团、鼎捷数智、汉王科技、赛意信息、海天瑞声、利欧股份、石基信息、意华股份、得润电子、瑞可达、拓维信息、神州数码、四川长虹、瑞贝卡、广电运通、软通动力、兴森科技、川润股份、凯旺科技、强瑞技术、光迅科技、泰嘉股份、欧陆通、利和兴、润达医疗、创业黑马、佳发教育、税友股份、焦点科技、泛微网络、新易盛、中际旭创、剑桥科技、德科立、东田微、胜宏科技、沪电股份、生益电子、鹏鼎控股、景旺电子、爱婴室、和晶科技、孩子王、创源股份、奥飞娱乐、珠江钢琴、世纪天鸿、凤凰传媒、中信出版、时代出版、华媒控股、竞业达、鸿合科技、豆神教育、方直科技、昂立教育、通达创智、贝因美、骑士乳业、品渥食品、天润乳业、燕塘乳业、博杰股份、齐翔腾达、宇新股份、中电鑫龙、新雷能、多伦科技、文科股份、佳禾智能、恒玄科技、英派斯、博士眼镜、明月镜片、值得买、商汤科技、纳科诺尔、锦江在线、小马智行、锦江出租、星辰智能体、亿境虚拟、英诺激光、迈普医学、东芯股份、砺算科技、蕾奥规划、天和防务、众生药业 核心观点和论据 1. **光刻机行业** - **核心观点**：国产化持续推进，500nm突破标志可覆盖更广泛场景，满足国内70%成熟制程需求，全球光刻机市场规模呈增长趋势[2] - **论据**：中国自主研发的EUV光刻机预计第三季度迈入试生产阶段，芯上微装前道500nm i线光刻机已发货至核心头部fab厂客户端进行量产验证；2024年全球光刻设备市场规模达295.7亿美元（同比+9.0%），预计到2029年将达378.1亿美元，2024 - 2034复合增长率为5.0%[2] 2. **人工智能行业** - **核心观点**：WAIC2025召开，GPT5即将发布，人工智能各领域有新进展和突破[7] - **论据**：华为首次线下展出昇腾384超节点，算力总规模达300Pflops；京东发布行业首个100%开源的企业级智能体JoyAgen；自2025年5月更多Agent产品推出并起量；GPT5在全模态融合能力、推理能力等方向实现核心技术突破升级，计算效率提升50%，幻觉率降低40%[7][8] 3. **学前教育行业** - **核心观点**：国常会提出逐步推行免费学前教育，相关公司有望受益[12] - **论据**：会议指出要指导各地细化工作方案，安排好补助资金；爱婴室、和晶科技等公司在学前教育领域有相关业务布局[12] 4. **电学检测行业（博杰股份）** - **核心观点**：Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司作为N客户供应商有望受益[14] - **论据**：2025年7月25日盘中网传Nvidia AI芯片组维修需求激增，公司AI服务器业务比重占20%左右，为N客户实验室自研服务器产品做检测[14] 5. **丁酮行业（齐翔腾达）** - **核心观点**：丁酮量价齐升，公司作为甲乙酮行业领军企业受益[15] - **论据**：2025年7月23日欧洲亮牌丁酮装置关停，丁酮价格从6月低点6250元/吨飙升至7月25日9200元/吨，累计涨幅达47.2%，6月出口量达3.01万吨创年内新高；公司拥有设计产能26万吨/年的甲乙酮装置，国外业务占比44.83%[15] 6. **智能输配电行业（中电鑫龙）** - **核心观点**：公司产品适用于水利工程，且在数据中心和磁电存储领域有布局[16] - **论据**：2025年7月24日互动显示公司智能输配电设备可适用于水利工程项目，已有部分产品应用于国家重点水利工程；与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作；曾定增20亿拟用于磁光电存储技术[16] 7. **电源模块行业（新雷能）** - **核心观点**：网传公司供GB200机柜中电源模块，对应较大市场规模，公司在数据中心和军工领域有业务[17] - **论据**：按单台200KW、3元/W、一年4万台机柜计算，对应240亿元市场规模，若公司10%份额，对应24亿元收入；重点开展相关电源研发，与新华三合作；特种电源业务占比超90%[17] 8. **智能驾驶行业（多伦科技）** - **核心观点**：公司是华为昇腾AI产业链重要合作伙伴，在智能驾驶和机器人领域有进展[18] - **论据**：与华为昇腾合作完成多项产品认证，依托昇腾创建人工智能算力中心；旗下“多多驾到”接入大模型赋能产品；官宣对众擎机器人战略投资并成立研究中心[18] 9. **生态环境行业（文科股份）** - **核心观点**：跟进雅下环境生态工程，公司深耕生态环境领域且拟进行重组[19] - **论据**：2025年7月26日消息公司跟进雅鲁藏布江项目环境生态工程业务；公司深耕生态环境领域营收占比85.02%；拟进行债权重组和债务重组[19] 10. **其他题材** - **AI眼镜**：阿里巴巴发布首款自研AI眼镜“夸克AI眼镜”技术研发进展，融合阿里和支付宝生态[19] - **固态设备（纳科诺尔）**：有望成为固态设备平台型企业，按中期固态电池扩产量测算可为公司贡献约17亿元利润[20] - **智能网联汽车（锦江在线）**：小马智行联合锦江出租逐步向公众开放自动驾驶出行服务[20] - **激光（英诺激光）**：为上海微电子光源系统重要合作伙伴，激光器已进入其供应链名单[21] - **医学（迈普医学）**：颅颔面修补产品有望抢占传统钛材料市场，部分产品预计集采落地后放量[21] - **芯片（东芯股份）**：砺算科技发布首款全自研GPU芯片及显卡产品，提升游戏帧率[21] - **规划（蕾奥规划）**：召开AI产品发布会，销售逐步展开，入选联通合作伙伴招募项目[22] - **军工装备（天和防务）**：军工装备业务以新一代综合近程防御系统为核心，核心产品已列装部队[22] - **医药（众生药业）**：收到原料药氯贝酸铝上市申请批准通知书，预计市场规模增长[22] 其他重要但可能被忽略的内容 1. **光刻机行业**：光源系统是光刻机最为核心的环节，目前全球仅ASML子公司Cymer和日本Gigaphoton可供应EUV光源；光学系统对光路进行优化处理；工件台系统控制晶圆及掩模版运动，ASML的TWINSCAN双工件台系统提高晶圆制造效率但对控制精度要求高；光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统等，曝光需在特制洁净室[2][3] 2. **人工智能行业**：WAIC2025集中发布多项政策成果及技术应用成果，如上海高级别自动驾驶引领区发展行动方案等[18] 3. **学前教育行业**：学前教育是针对3 - 6岁儿童在进入小学前接受的正规教育，包括幼儿园和学前班教育[12] 4. **丁酮行业**：甲乙酮有时会被作为光刻胶剥离剂或清洗剂成分之一[15] 5. **智能输配电行业**：中电鑫龙与华为在智慧城市、大数据中心建设等方面合作，曾联合中标苏州市人工智能算力中心项目[16] 6. **电源模块行业**：新雷能重点开展比例变换器模块等研发，与新华三签署战略合作协议[17] 7. **智能驾驶行业**：多伦科技旗下“多多驾到”接入国内领先Al大模型DeepSeek，打造新一代“驾培智能体”与“语音交互智能体”[18] 8. **生态环境行业**：文科股份深耕生态环境领域，在大项目施工管理等多方面表现卓著，拟进行债权重组和债务重组以加速债务剥离及资产盘活[19]

纪要涉及的行业和公司 - **行业**：光刻机行业、半导体行业 - **公司**：ASML（阿斯麦尔）、佳能、尼康、中芯国际、华虹半导体、福晶科技、阿石创、惠程真空、迈莱光学、波盛光电 纪要提到的核心观点和论据 市场格局 - **全球市场**：全球光刻机市场高度集中，ASML 占据超 80%份额，佳能和尼康已落后；低端 IE 光刻机领域佳能出货多，KRF 领域 ASML 一年出货超 150 台，尼康和佳能约 50 台，干法 ARF 领域年出货约 28 台，静默式 ARF 领域达 129 台，EUV 领域基本仅 ASML 能生产[1][10]。 - **国内市场**：国内半导体行业在先进制造和光刻机领域处于从 0 到 1 阶段，因海外对高端光刻机禁运，发展迫切性高；国内在先进制程中使用静默式光刻机多，是国产替代迫切方向，但面临巨大挑战[2][11]。 技术发展 - **光刻技术**：经历接触式、接近式到投影式发展，投影式成主流，还引入液浸式技术优化成像效果；光刻机发展从机线光刻机（波长约 430 纳米）到 i 线（365 纳米）、KRF（248 纳米）、ARF（193 纳米）、EUV（13.5 纳米）[1][5][9]。 - **核心组成部分**：光源系统决定波长和功率，影响加工精度和良率；照明系统将激光传输到掩模版，含关键部件可优化光束形状；投影物镜系统将掩模版图案投影到硅片，设计与制造难度大，价值量最高[1][12][15]。 国产替代 - **重点方向**：未来国产替代卡脖子环节重点关注中芯国际代表的先进制造，以及福晶科技、阿石创等代表的光刻机产业链，这些方向有巨大市场空间和长期成长潜力[1][7]。 产品与部件 - **ASML 产品**：产品编号越大越高端，不同型号根据分辨率适用于不同精度加工任务，高分辨率支持更先进制程、提高良率[13]。 - **光源系统**：是光刻机制成核心，由发光部件等组成，影响加工精度和良率，是决定分辨率重要因素之一[12]。 - **光学公式**：分辨率由光源波长、物镜数值孔径、工艺因子决定，短波长、高数值孔径和优化工艺因子可提升分辨率[14]。 - **不同光源**：汞灯适用于低分辨率需求，KrF 和 ArF 可实现更短波长提高分辨率，EUV 采用二氧化碳激光击打锡滴产生 13.5 纳米极紫外线，是最先进复杂技术[16]。 其他重要但可能被忽略的内容 - **产业链差异**：全球以 ASML 为例，镜头由蔡司公司制造并运送；国内由供应商设计镜头，交给专业公司制造[19][20]。 - **工件台**：在曝光过程中关键，技术难点包括抗震能力和稳定运行速度，配备高精度传感器确保芯片与光束精确定位，部分高端传感器依赖手工制作[21]。 - **市场看法**：市场看好光刻机赛道，与先进制程密切相关，不受短期业绩和估值波动影响，重点推荐中芯国际、福晶科技、阿石创等公司，福晶科技股价从 2024 年底至今滞涨，板块有机会可能迎来行情[22]。

光刻机行业动态 - 荷兰ASML交付世界首台第二代High-NA EUV光刻机EXE:5200B 售价近30亿人民币 但对中国禁售先进制程光刻机 [1] - 国内科研机构和企业正合作研发高端国产光刻机 首台产品不久将面世 [1] 福光股份业务发展 - 2024年利润扭亏为盈 产品结构优化 毛利率提高 [1][2] - 定制产品用于尖端设备 非定制产品如安防镜头全球领先 [1] - 非定制产品在高端应用领域潜力巨大 [1][2] 技术研发进展 - 公司凭借"军转民"技术基础参与光刻机研发 与长光所合作研发物镜镜片等关键部件 [1][2] - 部分技术成果已达世界先进水平 对我国光刻机研发具有关键作用 [1][2] - 公司在光学元器件领域多项技术首创 引领行业技术发展 [2] 市场定位与潜力 - 公司被视作光刻机研发领域的"黑马" 同时在无人机、机器人等新兴领域展现技术潜力 [2] - 定制产品收入大幅增长 高端化趋势明显 [2]

光刻技术核心 - 光刻是半导体制造中最重要且技术壁垒最高的环节，通过光刻机将掩模版图案转移至晶圆，直接决定产线技术水平 [8][9] - 光刻工艺分为曝光、显影和清洗三阶段，需涂覆光刻胶并通过化学反应实现图案转移 [9][14] - 分辨率是光刻机核心指标，由瑞利公式决定，与光源波长λ、数值孔径NA及工艺因子k1相关 [2][15][25] 光刻机技术演进 - 光源波长从436nm汞灯光源迭代至13.5nm EUV光源，优化跨度最大 [35][36][38] - 数值孔径NA通过浸润式技术（折射率1.44）和透镜设计提升，浸没式光刻机NA达1.35 [41][53][57] - 工艺因子k1通过RET技术突破0.25理论极限，包括OPC、OAI、PSM等方法 [59][60][62] 光刻机核心部件 - 光源系统：EUV光源由CO2激光轰击锡靶液滴产生，全球仅Cymer和Gigaphoton能供应 [3][39][69] - 光学系统：DUV采用29片透镜组，EUV采用蔡司反射镜（平整度<0.05nm） [73][74][76] - 工件台系统：ASML双工件台技术使生产效率达295片/小时，精度控制是关键 [78][79] 行业竞争格局 - ASML凭借双工件台、浸润式和EUV技术垄断市场，EUV市占率100% [80][83][84] - 尼康聚焦DUV（38nm分辨率），佳能主攻KrF/i线等低端市场 [113][114][115] - 全球光刻机CR3近100%，ASML占60%份额 [83][84] 国产化进展 - 上海微电子已实现90nm DUV光刻机量产，封装光刻机全球市占40% [131] - 华卓精科突破双工件台技术，国科精密研发NA=0.75物镜系统 [128][131] - 中科院22nm超分辨光刻装备通过验收，结合双重曝光可达10nm级 [128]

报告行业投资评级 - 看好丨维持 [11] 报告的核心观点 - 通过对光刻机关键技术、关键工艺环节的分析以及对光刻机行业格局的复盘，我国光刻机产业或可充分发挥后发优势，集中力量攻克核心环节，最终实现国产自主之路 [4] 根据相关目录分别进行总结 灿若星河，光刻机加冕半导体皇冠 - 光刻是晶圆制造中最重要的技术之一，核心设备光刻机直接决定晶圆制造产线的技术水平，也是晶圆制造工艺中价值量和技术壁垒最高的设备之一 [22] - 光刻技术的核心是使用光刻机将芯片的设计图案转移至硅片，加工步骤分为曝光、显影和清洗三个阶段 [24] - 分辨率是光刻系统能够实现的最小精度，也是光刻曝光系统最重要的技术指标之一，为提高分辨率，工程中常用的方式包括增大投影光刻物镜的数值孔径、采用更短的工作波长、减小光刻工艺因子等 [28][32] - 光刻机的关键尺寸（分辨率）与集成电路的核心物理参数存在对应关系，ASML 将光刻工艺的关键尺寸（分辨率）定义为半周期间距 [34][35] - 影响光刻机加工的集成电路关键尺寸的因素有光源波长λ、数值孔径 NA 以及工艺因子 k1，减小特征尺寸提高精度的主要方式为光源波长的缩短，当波长缩短到当时科技的极限时，主要的攻克方向逐渐变为增大 NA 以及缩小 k1，直到更短波长的光源被发现并大规模应用 [39] - 光源波长的发展历程经历汞灯、准分子激光器、EUV 光源三个阶段，减小光刻机所用光源波长是优化分辨率最直接有效的方式 [43] - 当光源演进触及技术瓶颈时，增大数值孔径成为减小光刻机分辨率另一有效的方式，数值孔径的计算公式为 NA=nsinθ，增大 NA 的方式包含增大透镜工作介质的折射率或增大透镜的收光能力 [51] - 工艺因子 k1 包含因素多样，RET 技术可增大 k1，增强分辨率，主要方法包括邻近效应修正、离轴照明、使用具有相移的掩模版、添加亚分辨率的辅助图形等 [74] 百川归海，光刻机零件聚焦三大核心 - 光刻机内部最核心的环节主要在于光源系统、光学系统、工件台系统，除以上三大核心环节，光刻机内部还包括晶圆传输系统、减震系统、外部的操纵台，并且光刻机的曝光还需要在特制的洁净室 [77] - 光源系统为光刻过程提供能量，是光刻机最关键的环节，由早期的高压汞灯，发展至准分子激光器系统，再到现在的 EUV 光源，光源系统的升级极大缩小了波长，是提高光刻机分辨率最重要的方式 [82] - 光源系统具备极高壁垒，全球供应商寥寥可数，目前全球仅 ASML 的子公司 Cymer 和日本的 Gigaphoton 可供应 EUV 光源，我国科益虹源紧随其后成为目前全球第三家 DUV 光源供应商 [83] - 光学系统不仅是光的传播路径，同时可以缩小像差，增大收光角，进而提高分辨率，对于 DUV 光刻机需要采用 29 片透镜，而 EUV 光刻机则需要蔡司定制的平整度小于 0.05nm 的反射镜 [88][89] - 工件台系统主要功能是负责控制硅片步进运动，同时重点要兼顾掩模版、晶圆和双工件台的实时对准，ASML 提出的双工件台系统极大提升光刻的精度与效率，目前除 ASML 外，我国华卓精科打破技术壁垒，最先进的水平可实现支持浸润式光刻机 ArFi 的双工件台 [91] 筚路蓝缕，复盘光刻机龙头波澜历程 - 光刻机发展历史大致可分为三个主要阶段，各大龙头相互替代关键因素在于技术迭代升级，根据光刻机产业重心来看，经历了美国—日本—荷兰（ASML）的迁移过程 [94] - 凭借极高的技术壁垒，全球光刻机市场“一超双强”格局基本稳定，从销售台数看，21 世纪后光刻机市场基本由三巨头 ASML，佳能以及尼康垄断，CR3 接近 100%，其中 ASML 市占率近 60%独占鳌头，从产品布局看，ASML 在先进制程优势显著，尼康占据 ArFi 光刻机剩下的不到 10%份额，而佳能光刻机主要覆盖 i 线以及 KrF 等相对低端制程 [97] - 1960~1980 年，美国作为半导体技术的发源地，在早期近乎垄断了半导体制造业，其中具备代表性的龙头为 GCA 以及 Perkin Elmer，美国光刻机行业的先发优势受到严重冲击 [94][110] - 1980~2000 年，受益于 PC 崛起带动的存储需求爆发以及政府的大力扶持，日本半导体产业迅速崛起，尼康与佳能两大光刻机巨头实现对美国的反超，日本光刻机的崛起见证了举国体制下后发优势的充分发挥，或可成为我国良好的借鉴 [94][111][130] - 2000 至今，在光源波长达到 193nm 后，尼康选择攻克下一代 157nm 但遇到较大阻力，而 ASML 联合台积电转向浸润式光刻机，实现等效的 134nm 波长，而后续 ASML 在 EUV 光刻机的垄断正式奠定全球光刻机龙头地位 [94] 风起青萍，国产光刻路虽远行则将至 - 我国光刻机产业起步并不晚，但早期缺乏产业链的全面布局以及自主化的决心，发展历程缓慢，90 年代光刻机发展趋于停滞，没能延续起步阶段积累的优势 [145] - 自主化战略确立，政策扶持下国内光刻机行业扬帆再起，近年来在政府扶持和统一规划明确分工的前提下，后发优势凸显 [146] - 上海微电子是“02”专项光刻机项目承担主体，其封装光刻机在全球市场占有 40%以上的份额，国内市场占有率超 90%，在 IC 前道制造领域，公司 SSX600 系列步进扫描投影光刻机可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求 [150] - 国内多家公司在光刻机光学、整机、功能件等领域取得进展，可应用于光刻机等设备 [151]

资本市场"美国例外论"的转变 - 过去十年国际投资者将美国市场视为全球动荡时的避风港 但今年这一规律失灵 市场开始认为最大的风险可能来自美国本身[1][2][3] - 特朗普上任百日标普500指数下跌超过14% 大幅跑输全球市场 7月美国对日韩加征40%关税后 亚洲欧洲市场上涨而美股三大指数全线下跌[6][8][9][10][11] - 市场预期显示美国关税政策对自身的冲击大于对其他国家 美国政府后续发布关税政策时刻意避开美股交易时段[13][15] 美国股指波动性变化 - 道琼斯指数从过去最稳定的股指变为7月跌幅最大的指数 年初排名最高现今最低[16][17][19][20] - 道指成分股中制造业企业占比最大 当前美国实际平均关税税率从16 6%升至20 2% 超40%依赖进口的制造业和服务业企业报告利润下滑[21][22] - 道指成分股供应链和市场高度全球化 关税政策正在破坏这种联系导致指数不稳定[22] 美股结构特征与全球化关联 - 标普500成分公司整体海外营收占比约30% 包括海外上市企业(如荷兰ASML)和利润依赖中国/欧洲市场的美国跨国企业[23][24] - 美股三大指数严重依赖少数科技巨头 标普500和纳斯达克采用市值加权 道指采用股价加权 而反映本土经济的标普600小盘股指数持续走弱[25][27] - 罗素2000中小企业指数与标普500差距扩大 新政府上台至7月24日下跌2 84% 落后标普500超7个百分点[29][31] 美元资产吸引力下降 - 国际投资者过去依靠美元升值获取汇差收益 但当前美国政府主动推动美元贬值 美元指数跌至近年低点[32][33][34] - 美国对外净负债达GDP的90%创历史新高 科技股呈现分化格局 除前十大股票外标普500未来盈利预测连续三年无增长[34] - 2025年Q2美国长期债券基金流出110亿美元创2020年来纪录 同期欧元区长期债务获970亿欧元净流入 为2014年来单月最高[35]

A股市场近期表现 - A股市场近期呈现缩量震荡分化态势 上证 深证 创业板均出现下跌 北交所冲高回落 只有科创板逆势拉升 [1] - 如果周末没有重大利好消息 今日下跌或回落的方向在下个交易日可能会继续出现低开或下跌 [1] 科技股表现及原因 - 科技股表现强势 尤其是光刻机 光刻胶 晶圆代工 国产半导体设备等涉及国产替代的方向 [1] - 国产光刻机迎来重大更新 提升了市场对半导体国产替代的信心 [1] - 国产晶圆代工在三季度即将量价齐升 这一逻辑在短期内无法被证伪 [1] 其他板块观点 - 水电站概念短线基本可以不用关注 [2] - 创新药短线偏向于调整 资金可能会流向纺织药 一致性评价以及医疗器械等方向 [2] - 原型机器人 固态电池 白酒 光伏组件 光伏电池片等方向需要观察下周前两个交易日的走势 [2] 市场策略建议 - 目前市场处于慢牛行情 投资者不要满仓也不要空仓 保持适度仓位 灵活应对市场变化 [2]

市场表现 - 指数午后震荡回调，三大股指集体收跌，科创50逆市涨超2% [2] - 个股跌多涨少，下跌个股超2700只，沪指报3593.66点跌0.33%，深成指报11168.14点跌0.22%，创指报2340.06点跌0.23% [2] - 盘面上Sora概念、光刻机、多模态AI、智谱AI板块涨幅居前，海南自贸区、雅下水电、赛马概念跌幅居前 [2] 光刻机板块 - 茂莱光学、张江高科、美埃科技等多股上涨 [3] - 2024年全球半导体设备销售额为1090亿美元，光刻机市场占比达24%，为最高品类且占比持续提高 [3] Sora概念板块 - 因赛集团、易点天下等多股上涨 [4] - OpenAI正筹备推出新一代视频生成AI模型Sora 2，与谷歌Veo 3竞争 [5] - AIGC视频生成领域仍处于未商业化或商业化早期，需关注大模型开发能力、垂直应用技术成熟度及商业模式进展 [5] 医药行业 - 国家医保局新设立商业健康创新药目录，已有超过100个药品申报创新药目录 [6] 房地产行业 - 万科完成出售上海金桥万创中心项目，总建筑面积11万平方米，接手者为一家国企 [7] 人工智能行业 - 中国人工智能发展呈现积极有序发展态势，初步构建中国特色人工智能安全治理体系 [8] - 高通、IBM、华为、百度、腾讯等50余家会员企业代表参会 [8] 贸易动态 - 欧盟委员会对原产于中国的太阳能玻璃发起第二次反倾销和反补贴日落复审调查 [9] 机构观点 - 7-8月业绩窗口期宽幅预告的龙头个股超额收益明显，化工、电力设备等行业是宽幅预喜主要集中领域 [10] - "反内卷"行情持续发酵因政策层级高、行业筹码干净、市场风险偏好高位 [10]