掩模写入器是一种利用电子束照射在模板上绘制精细电子电路图案的设备，该模板由涂有光敏树脂的石英玻璃基板形成。单束掩模写入 器通过将单个电子束集中在电磁场的一个位置上，然后通过偏振器将光束偏转到要照射的位置来将数据写入掩模。通过重复光束偏转， 然后移动安装基板的舞台，可以创建大型电路图案。多束掩模写入器使用数千个微小光束，与基于可变形状光束（ VSB ）的工具相比， 可以更快地制作或写入先进的掩模。随着芯片微型化使器件设计更加复杂，并需要使用更多的掩模，多束系统的需求正在增加。 多束掩模写入器根据生产节点可分为 7nm 及以上、 5nm 和 3nm 及以下等类型。 7nm 及以上节点的多束掩模写入器主要用于消费电子领 域，如智能手机、平板电脑和笔记本电脑等高性能计算设备，以及数据中心的高性能服务器和网络设备。此外，它还应用于汽车领域的 高级驾驶辅助系统（ ADAS ）和车载信息娱乐系统，以及物联网设备中的智能家居设备和连接传感器。 5nm 节点的多束掩模写入器适用 于高性能计算（ HPC ）任务，如人工智能和机器学习，以及旗舰智能手机的尖端处理器和高性能网络设备。 3nm 及以下节点的多束掩模 写入器则用于下一代 ...