公司专利技术动态 - 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司于2024年7月申请了一项名为“掩膜版图及其图形添加方法”的专利，公开号为CN121454857A [1] - 该专利技术通过设计虚拟图形与有效图形延伸方向之间具有特定角度，使虚拟图形在光刻工艺中不成像，从而最大化利用光刻照明条件对虚拟图形线宽的容许度 [1] - 该技术旨在降低掩膜版图中虚拟图形出现倒塌或脱落的风险，从而提高掩膜版图的制作良率和可靠性 [1] 公司基本情况 - 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司成立于2000年，位于上海市，主营业务为计算机、通信和其他电子设备制造业 [2] - 公司注册资本为244,000万美元 [2] - 公司对外投资了4家企业，参与招投标项目129次 [2] - 公司拥有商标信息150条，专利信息5000条，以及行政许可446个 [2]