Workflow
用于选择性间隙填充的低温等离子体预清洁技术
icon
搜索文档
应用材料公司取得用于选择性间隙填充的低温等离子体预清洁专利
金融界· 2026-01-23 13:45
公司专利动态 - 应用材料公司在中国取得一项名为"用于选择性间隙填充的低温等离子体预清洁"的专利 [1] - 该专利授权公告号为CN114930520B [1] - 该专利的申请日期为2021年6月 [1]