DLP991UUV DMD
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TI DLP,助力无掩膜光刻
半导体行业观察· 2025-10-15 10:48
新产品发布 - 德州仪器推出新型工业数字微镜器件DLP991UUV,是其迄今最高分辨率的直接成像解决方案 [2] - 该器件具备890万像素、亚微米级分辨率能力及每秒110千兆像素的数据传输速率 [2] - 器件主要特性包括:超过890万像素的极高分辨率、高达110千兆像素/秒的极快处理速度、405nm波长下功率密度达22.5W/cm²、支持低至343nm的工作波长、仅5.4um的微镜间距 [14] 技术优势与行业影响 - 无掩模数字光刻技术可消除对昂贵掩模技术的依赖,满足复杂封装工艺对可扩展性、成本效益和精度的要求 [2][5] - 该技术通过消除掩模基础设施及相关费用,有助于显著降低制造成本,同时支持实时、灵活的设计调整 [9] - 技术可在各类尺寸基板上实现亚微米级精度,从而提升产量与良率,减少缺陷 [9] - 无掩模数字光刻系统正广泛应用于高级封装制造领域,使数据中心和5G等高性能计算应用实现更小巧、更快速、能效更高的系统设计 [5] 市场定位与应用前景 - DLP技术推动无掩模数字光刻系统的建设,使全球工程师能够突破当前高级封装的限制 [6] - 该技术优势契合高级封装制造商在AI系统和5G网络中对高带宽、低功耗组件日益增长的需求 [9] - DLP技术支持多元应用场景:从家庭影院绚丽的4K内容投影,到智能汽车照明,乃至下一代工业制造所需的高精度光刻与机器视觉系统 [9] 产品供应 - 新款DLP991UUV DMD支持预量产,现可通过TI官网采购,支持多种付款方式和发货方式 [11]