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高盛:全球半导体-硅片、碳化硅衬底、氮化镓的供需模型更新,中国产能及对全球企业的影响
高盛· 2025-06-24 10:28
报告行业投资评级 - 买入评级:北方华创(SiC晶体生长炉)、天科合达(SiC衬底)、胜高(硅片)、信越化学(硅片)、三菱电机(SiC器件)、英飞凌(SiC器件)[2] 报告的核心观点 - 中国本地供应商在硅片和SiC衬底领域产能扩张,预计2024 - 2027E期间,12英寸硅片产能将以21%的复合年增长率扩张,SiC衬底产能(6英寸等效)将从250万片/年增长到750万片/年,本地产能覆盖率到2027E将达到87% [1][49] - 随着成本降低,SiC和GaN在高功率、高频应用中逐渐取代IGBT,预计到2030E,EV/铁路/电网的SiC渗透率将分别达到75%/38%/29%,中国GaN器件市场将从2024年的2.09亿美元增长到2030E的16亿美元 [52][53] - 全球硅片行业集中度高,技术壁垒高,中国本地晶圆制造商对日本两大晶圆公司的直接影响有限,未来300mm硅片需求将受AI服务器等因素驱动增长 [73][82][103] 各部分总结 中国硅片/ SiC衬底/ GaN市场规模(TAM) - 中国硅片市场规模预计从2021年的19.99亿美元增长到2030E的45.11亿美元,12英寸硅片需求增长显著 [37] - 中国SiC衬底市场规模预计从2021年的1.97亿美元增长到2030E的27.7亿美元,6英寸和8英寸衬底出货量均有增长 [39] - 中国GaN市场规模预计从2021年的6600万美元增长到2030E的16亿美元,快充、消费电子、EV和数据中心等领域需求推动增长 [42] 供应:中国本地供应商的产能扩张和全球Tier供应商的中国业务 - 中国本地硅片供应商产能扩张主要集中在12英寸,受逻辑和存储客户产能扩张及满足本地客户需求的驱动;SiC衬底产能扩张受SiC器件采用率上升驱动,尤其是在EV领域 [43] - 全球Tier供应商中,信越化学和胜高在中国的销售额已降至个位数水平,中国本地供应商的崛起对其影响有限 [96] 需求:SiC / GaN在高功率/高频应用中取代IGBT - SiC成本降低使其竞争力增强,在EV、铁路、电网等领域的渗透率不断提高,越来越多的EV车型开始采用SiC平台 [52] - GaN凭借高频和高电子迁移率的优势,应用场景从快充扩展到消费电子、EV、数据中心等领域 [53] 从全球硅片行业借鉴经验 - 全球硅片行业经历了整合,目前300mm硅片市场主要由信越化学、胜高、环球晶圆、世创和SK矽康等五家公司主导 [73] - 硅片行业技术壁垒高,包括大量资本支出、研发投入、长期技术积累和客户信任等,新制造商进入难度大 [82] - 中国本地晶圆制造商对日本两大晶圆公司的直接影响有限,半导体设备制造商不太可能大量采用中国本地晶圆制造商的产品 [96][101] 从全球半导体供应链借鉴经验 - 罗姆预计2026财年SiC亏损将有所缩小,目标在2028财年实现收支平衡,公司将降低资本支出并加速器件技术路线图 [119] - 英飞凌是全球领先的功率半导体供应商,依赖外部供应商提供晶圆,对中国晶圆质量评价较高,预计将受益于市场需求增长 [122][123] - 环球晶圆是全球排名前三的硅片供应商,继续投资SiC和GaN扩张,预计行业将从6英寸向8英寸SiC晶圆转变 [128] 定价:硅片和SiC衬底向大尺寸发展以支持综合平均销售价格(ASP) - 同类产品价格因竞争和本地供应商产能扩张而呈下降趋势,但产品向大尺寸、高端应用迁移可支持综合ASP [133] - 2024年EV IGBT ASP同比下降35%,6英寸SiC衬底价格两位数下降,预计2025E价格将更稳定 [133] 中国IGBT市场规模(TAM) - 中国IGBT市场规模预计从2021年的30.59亿美元下降到2030E的27.98亿美元,主要受EV和铁路领域SiC渗透率上升影响 [137] - 中国IGBT产能和产量预计将增长,2025E - 2026E的供应/需求比分别为128%/131% [137]
267.3亿美元!半导体晶圆市场势头正盛
半导体芯闻· 2025-06-12 18:07
如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~ 来源:内容来自 。 据SNS Insider报道,半导体晶圆市场正经历强劲的增长势头,2023年市场价值为175.7亿美元, 预计到2032年将达到267.3亿美元。根据综合分析,在2025年至2032年的预测期内,市场将以 4.80%的复合年增长率(CAGR)扩张。这一增长得益于技术的快速创新、消费电子应用的不断扩 大以及对先进制造工艺的投资不断增加。 技术进步催化半导体晶圆市场的增长 半导体晶圆市场正受益于微电子和纳米技术的持续进步。随着对更快、更高效、更紧凑的电子设备 的需求不断增长,半导体晶圆在微芯片、集成电路和光子元件的生产中正变得越来越不可或缺。晶 圆制造技术的创新,例如极紫外 (EUV) 光刻技术和 3D 堆叠技术,正在提高生产效率并提升芯片 性能,从而促进市场的长期增长。 此外,从传统的200毫米晶圆向300毫米晶圆的过渡,以及目前450毫米晶圆的探索性发展,都体现 了行业对可扩展性和更高产量的追求。这些转变不仅有助于降低单颗芯片的制造成本,还能提高良 率,从而直接促进半导体晶圆市场的盈利能力和扩张。 消费电子应用不断扩展,支撑半导体晶圆市场 智能手机 ...
STMicroelectronics details company-wide program to reshape manufacturing footprint and resize global cost base
Newsfilter· 2025-04-10 20:00
文章核心观点 - 意法半导体披露重塑全球制造布局计划,旨在加强竞争力、巩固全球半导体领先地位,确保集成设备制造商模式的长期可持续性 [2] 公司战略目标 - 重塑和现代化制造运营,优先投资未来基础设施,最大化旧有产能的生产力和效率,持续升级技术并注重可持续性 [5] - 未来三年重塑制造布局,设计和加强在法国、意大利和新加坡的互补生态系统,实现产能充分利用和技术差异化 [6] 制造业务创新与效率提升 - 随着创新周期缩短,制造战略不断演变,加速向全球客户大规模交付创新专有技术和产品 [4] - 计划继续投资升级运营技术,部署人工智能和自动化,提高技术研发、制造等流程的效率 [5] 各地区制造布局调整 意大利 - 阿格拉特300mm晶圆厂将扩大规模,目标是到2027年将产能翻倍至每周4000片晶圆,根据市场情况可扩至每周14000片,200mm晶圆厂将专注于MEMS [7][8] - 卡塔尼亚将继续作为功率和宽带隙半导体设备的卓越中心,200mm碳化硅晶圆将于2025年第四季度开始生产,资源将重新聚焦于200mm碳化硅和硅功率半导体生产 [10] 法国 - 克勒(Crolles)300mm晶圆厂将巩固为数字产品生态系统的核心,到2027年产能增至每周14000片晶圆,根据市场情况可扩至每周20000片,200mm晶圆厂将转换为支持电气晶圆分选高容量制造和先进封装技术 [9] - 鲁塞(Rousset)将继续专注于200mm制造,从其他工厂重新分配额外产量以实现现有产能的充分利用 [11] - 图尔(Tours)将专注于200mm硅生产线,其他活动将转移到不同工厂,还将成为氮化镓能力中心并开展面板级封装新活动 [12] 其他地区 - 新加坡宏茂桥工厂将专注于200mm硅制造,并整合全球旧有150mm硅产能 [13] - 马耳他柯科普工厂将升级,增加先进自动化技术以支持下一代产品 [13] 员工与技能发展 - 未来三年制造布局重塑,员工规模和技能要求将发生变化,公司将通过自愿措施管理过渡,预计最多2800人自愿离职,主要发生在2026年和2027年 [14] 公司概况 - 公司拥有50000名员工,与超200000家客户和数千家合作伙伴合作,致力于实现碳中和及100%可再生电力采购目标 [15]
【电子】AI和晶圆厂扩建驱动半导体材料市场回暖,高端材料国产化进程加速——半导体材料系列报告之二(刘凯/黄筱茜)
光大证券研究· 2025-03-13 17:05
半导体材料市场概况 - AI产业驱动、存储芯片补货、晶圆厂扩建推动2024年半导体市场规模增长 [3] - 中国大陆半导体材料市场规模从2019年593亿元增长至2023年979亿元 2024年预计达1011亿元 [3] - 半导体材料分为晶圆制造材料和封装材料 是半导体制造工艺的核心基础 [3] 硅片行业 - 12英寸硅片为主流趋势 8英寸硅片在功率器件、电源管理器等领域仍有显著优势 [4] - 12英寸硅片应用于逻辑芯片、存储芯片等高端领域 8英寸硅片用于功率器件、MEMS等 [4] - 库存去化接近尾声叠加终端需求驱动 行业有望逐步复苏 [4] 电子特气 - 电子特气覆盖半导体制程多个环节 全球市场由欧美日企业主导 [5] - 2020年中国电子特气国产化率仅14% 集成电路用特气仅能生产20%品种 市场份额12% [5] - 预计2025年国产化率提升至25% [5] 掩膜版 - 掩膜版是微电子制造关键材料 用于平板显示、半导体等行业 [6] - 独立第三方半导体掩膜版市场海外公司占比较高 国内厂商逐步突破技术难度 [6] 光刻胶 - 光刻胶是光刻工艺核心耗材 性能决定光刻质量 [7] - 中国G/I线光刻胶部分国产替代 KrF/ArF/EUV光刻胶主要依赖进口 [7] 湿电子化学品 - 技术门槛高、资金投入大、产品更新换代快 [8] - 晶圆厂产能增加带动湿电子化学品需求增长 [8] CMP材料 - CMP是集成电路制造核心技术 抛光液和抛光垫占耗材市场80%以上 [9] - 前道加工和后道封装均需多次使用CMP技术 [9] 靶材 - 半导体靶材具有多品种、高门槛、定制化特点 对金属纯度要求严苛 [10] - 成熟制程(28nm及以上)主要用铝靶和钛靶 先进制程(28nm以下)以铜靶与钽靶为主 [10]