UTMOST IV™

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Silvaco and Fraunhofer ISIT Collaborate to Advance Next-Generation GaN Device Technology using Silvaco's DTCO Flow
Globenewswire· 2025-06-24 21:15
文章核心观点 Silvaco与Fraunhofer ISIT达成战略研发合作,旨在利用Silvaco的技术加速下一代氮化镓(GaN)设备的开发,推动欧洲半导体能力提升和全球GaN设备发展 [1][3] 合作内容 - Silvaco与Fraunhofer ISIT开展战略研发合作,利用Silvaco的功率器件解决方案进行设计技术协同优化(DTCO),加速下一代GaN设备开发 [1] - Fraunhofer ISIT将借助Silvaco的设计工具,在其8英寸晶圆的后CMOS工艺环境中进行功率和传感器设备开发的DTCO,加速原型制作 [2] - Silvaco的实验设计(DOE)解决方案将简化开发工作流程,支持在评估新的工艺模块和新兴设备概念时进行快速创新 [2] 双方表态 - Silvaco TCAD部门高级副总裁兼总经理Eric Guichard表示,合作是加强欧洲半导体能力和推动全球GaN设备发展的重要一步,还能提升自身TCAD工具以满足未来设备设计需求 [3] - Fraunhofer ISIT先进设备组负责人Michael Mensing称,很高兴借助Silvaco的产品扩展GaN设计能力,其先进TCAD解决方案能让团队更深入高效地探索、理解和优化GaN设备性能 [3] 其他合作举措 - Fraunhofer ISIT除在研发和行业客户项目中积极使用Silvaco的工具外,还将培训当地大学学生使用Silvaco的Victory TCAD™平台,为下一代半导体设备工程师做准备 [3] 公司介绍 - Silvaco提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案,通过人工智能软件和创新实现半导体设计和数字孪生建模,其解决方案应用于多个市场的半导体和光子学开发,总部位于美国加州圣克拉拉,全球多地设有办事处 [4] - Fraunhofer ISIT为电力电子和微系统技术开发和制造定制组件,在德国研究晶圆厂微电子产品(FMD)中是8英寸后CMOS技术等的主要基地,专注于GaN传感器小芯片等开发及新兴陶瓷基板加工 [5]
Excelliance MOS Adopts Silvaco DTCO Flow for the Development of Next-Gen Silicon Carbide Devices
Globenewswire· 2025-05-06 21:15
文章核心观点 Silvaco宣布Excelliance MOS采用其DTCO流程加速下一代碳化硅功率器件开发,该流程可提升器件和电路性能优化、缩短开发时间,助力Excelliance MOS更快将创新电源解决方案推向市场 [1][3] 分组1:合作情况 - Excelliance MOS采用Silvaco的DTCO流程,包括Victory TCAD™和UTMOST IV™,以加速下一代碳化硅功率器件的开发 [1] 分组2:采用原因 - 随着高效电力电子需求增长,Excelliance MOS利用Silvaco先进DTCO平台简化碳化硅技术研发,其Victory Process™和Victory Device™模拟器可提供逼真工艺和精确器件模拟 [2] - Silvaco的DTCO流程结合Victory TCAD、UTMOST IV和Victory DoE,为Excelliance MOS提供强大且用户友好的解决方案,能增强器件和电路性能优化、缩短开发时间 [3] 分组3:工具作用 - Victory DoE可快速探索工艺变化,UTMOST IV可实现自动电气测量和SPICE模型提取,加速表征和电路级建模,二者共同助力Excelliance MOS高效设计、模拟和改进下一代碳化硅器件 [3] 分组4:公司优势 - Silvaco的模拟解决方案技术无关,支持多种应用,其工具具有以用户为中心的特点,可让工程师更快速准确地创新 [4] 分组5:公司介绍 - Silvaco是提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案的公司,其解决方案用于半导体和光子学等领域开发,公司总部位于加州圣克拉拉,在全球多地设有办事处 [5]
Silvaco Partners with Kyung Hee University’s Professor Jin Jang on AI-Powered Fab Technology Co-Optimization for Next Generation Display Technologies
Globenewswire· 2025-05-01 21:15
文章核心观点 Silvaco与韩国庆熙大学教授Jin Jang及先进显示研究中心达成四年战略研发合作,通过FTCO与AI驱动数字孪生建模推动显示技术创新 [1]。 合作内容 - Silvaco资助庆熙大学博士生,与Jang教授团队紧密合作,为新兴显示技术提供高质量测量数据 [2]。 - 联合研究将实验数据与Silvaco的模拟工具和FTCO解决方案平台结合,创建涵盖工艺、器件和电路层面的全面显示技术数字孪生 [2]。 - Silvaco负责运行相应TCAD模拟,使用Victory TCAD™模拟器等开发完整FTCO流程,结合庆熙大学实验数据,使晶圆厂工程师实时模拟工艺变化对器件和电路性能的影响 [3]。 合作目标 - 展示FTCO和AI数字孪生如何变革先进显示技术的开发和生产,为晶圆厂更快、更准确决策奠定基础 [3]。 - 应用FTCO和数字孪生方法优化下一代显示技术,在工艺优化、设计和良率提升方面实现新的效率水平 [4]。 公司介绍 - Silvaco提供TCAD、EDA软件和SIP解决方案,通过AI软件和创新实现半导体设计和数字孪生建模 [1][5]。 - 其解决方案用于半导体和光子学的多个市场及复杂SoC设计 [5]。 - 公司总部位于美国加州圣克拉拉,在全球多地设有办事处 [5]。