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公司融资活动 - ACM Research（上海）有限公司在上海证券交易所科创板完成普通股非公开发行，发行38,601,326股普通股，每股价格116.11元人民币[1] - 此次非公开发行募集资金总额为45亿元人民币（约合6.3亿美元），扣除发行费用后净募集资金为44亿元人民币（约合6.24亿美元）[2] - 募集资金计划用于研发、资本支出和补充营运资金[2] 发行细节与投资者 - 本次发行面向17名合资格投资者，所有投资者均以现金全额认购[3] - 新发行股份将在中国证券登记结算有限责任公司登记，并受制于六个月的锁定期，之后方可在科创板交易[3] 股权结构变动 - 非公开发行完成后，ACM Research Inc 对ACM Research（上海）的持股比例预计将从发行前的81.1%下降至约74.5%[4] - ACM Research Inc 仍将保持对ACM Research（上海）的控股权[4] 公司业务概览 - ACM Research Inc 是一家领先的半导体和先进封装应用领域的晶圆及面板处理解决方案供应商[6] - 公司开发、制造和销售半导体工艺设备，涵盖清洗、电镀、无应力抛光、立式炉工艺、跟踪、PECVD以及晶圆级和面板级封装工具[6]

FREMONT, Calif., Sept. 24, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) -- ACM Research, Inc. (“ACM”) (NASDAQ: ACMR), a leading supplier of wafer and panel processing solutions for semiconductor and advanced packaging applications, today announced that its operating subsidiary, ACM Research (Shanghai), Inc. (“ACM Shanghai”), has issued its report on the private offering of ordinary shares (the “Private Offering”) on the Shanghai Stock Exchange website [link to China Disclosure], in accordance with applicable regulations of the ST ...

公司产品发布 - 公司于9月17日推出首款专为宽禁带化合物半导体制造设计的Ultra ECDP电化学去镀工具 [1] - 该工具设计用于晶圆图案区域外的电化学晶圆级金蚀刻 具有更小的底切 增强的均匀性和金线外观 [2] - 新工具提供专业化工艺 包括去除金凸块 蚀刻薄金膜和深孔金去镀 并集成了预湿和清洗腔室 [3] - 工具采用模块化设计 可在同一平台上灵活结合镀膜和去镀工艺 并使用多阳极技术控制不同区域的去镀 [5] 产品技术与优势 - 通过精确的化学液循环和先进的多阳极电化学去镀技术 该工具减少了侧蚀 改善了表面光洁度 并保持了所有部件优异的均匀性 [3] - 工具提供全表面水平去镀 可在处理过程中避免交叉污染 [5] 行业与市场背景 - 化合物半导体市场因电动汽车 5G/6G通信 射频和人工智能应用的强劲需求而增长 [4] - 公司被列为14家值得投资的上市小型半导体公司之一 [1] 公司业务概况 - 公司开发 制造和销售半导体工艺设备 包括清洗 电镀 无应力抛光 立式炉工艺 轨道式设备 PECVD以及晶圆级和面板级封装工具 [6] - 公司产品支持先进和半关键半导体器件的制造 [6]

纳斯达克指数表现 - 纳斯达克指数在周一创下历史盘中新高，并以创纪录高点收盘，报收于22,788.98点 [1] 筛选方法与标准 - 使用净利率等会计比率评估公司盈利能力，净利率反映了净收入占总销售收入的百分比 [2][3] - 筛选标准包括：Zacks评级不高于3、过去12个月销售和净收入增长高于行业水平、过去12个月净利率高于行业水平、以及强力买入评级比例高于70% [4][5] - 上述参数将超过7,685支股票的筛选范围缩小至74支 [5] 重点公司分析：英伟达 - 英伟达为美国及全球市场提供图形、计算和网络解决方案 [5] - 公司宣布计划向OpenAI投资1000亿美元，以维持其在全球人工智能竞赛中的主导地位，此举提振了其股价 [5] - 英伟达过去12个月的净利率为52.4%，Zacks评级为3（持有） [6] 重点公司分析：博通 - 博通在全球范围内开发和供应各类半导体器件和基础设施软件解决方案 [9] - 博通过去12个月的净利率为31.6%，Zacks评级为3 [9] 重点公司分析：ACM Research - ACM Research及其子公司在全球范围内开发、制造和销售资本设备 [10] - ACM Research过去12个月的净利率为13.8%，Zacks评级为3 [10]

指数调整 - ACM Research将取代WK Kellogg被纳入标普小型股600指数 自2025年9月26日开盘起生效[1] - WK Kellogg因被费列罗集团收购而遭剔除 交易接近完成阶段[1] - ACM Research属于信息技术板块 股票代码ACMR[1] - WK Kellogg属于必需消费品板块 股票代码KLG[1] 标普道琼斯指数背景 - 全球最大指数概念和数据资源提供商 管理标普500和道琼斯工业平均指数等标志性指标[2] - 基于其指数的投资产品规模居全球首位[2] - 自1884年首创指数以来持续创新资产类别指数[2] - 隶属S&P Global旗下 为各类决策提供核心情报支持[3] 市场动态 - 标普500指数2025年第二季度股票回购额骤降20% 从第一季度创纪录的2930亿美元降至2350亿美元[5] - 第三季度回购支出预计将回升至接近历史高位水平[5]

活动基本信息 - 公司管理层将参加于2025年10月7日在美国亚利桑那州凤凰城The Arrogant Butcher餐厅举行的第17届年度CEO投资者峰会 [1] - 活动议程包括注册、社交午宴、CEO峰会会议环节和鸡尾酒会，时间为上午11:00至下午6:30 [3] - 演示材料将在公司网站的活动页面上公布 [2] 活动参与方与形式 - 峰会由包括ACM Research在内的12家公司的管理团队共同主办和资助，采用与公司管理层进行小型小组会议的“循环”形式 [3][4] - 参与公司涵盖半导体设备与测试领域，包括Aehr Test Systems、Alpha & Omega Semiconductor、Cohu, Inc、FormFactor等 [4] - Stifel和TD Cowen是此次会议的赞助商 [4] 公司业务概览 - 公司致力于开发、制造和销售半导体工艺设备，涵盖清洗、电镀、无应力抛光、垂直炉工艺、轨道、PECVD以及晶圆级和面板级封装工具 [7] - 公司提供的工艺解决方案旨在帮助半导体制造商提高生产效率和产品良率 [7]

产品发布与核心技术 - 公司推出首款专为宽禁带化合物半导体制造设计的Ultra ECDP电化学去镀设备 [1] - 该设备用于晶圆图形区域外的电化学金蚀刻，能提供更高的均匀性、更小的底切和改善的金线外观 [1] - 设备提供专业工艺，包括金凸块去除、薄膜金蚀刻和深孔金去镀，并集成预湿和清洗腔室 [2] - 设备采用精确的化学液循环和先进的多阳极电化学去镀技术，实现最小化侧蚀、优异的表面光洁度及所有特征上的卓越均匀性 [2] - 设备采用模块化设计，可在单一平台内集成镀和去镀工艺，并利用多阳极技术控制不同区域的去镀 [3] - 设备提供水平全表面去镀功能，以防止加工过程中的交叉污染 [3] 市场定位与应用领域 - 化合物半导体市场在电动汽车、5G/6G通信、射频和人工智能应用的强劲需求下持续增长 [3] - 金成为这些器件的优势材料，具有高导电性、耐腐蚀性和延展性，但也带来了蚀刻和电镀挑战 [3] - Ultra ECDP工具旨在满足化合物半导体制造不断变化的需求，可适应不同衬底（如碳化硅、砷化镓、磷酸锂）的独特物理特性 [3] 产品规格与兼容性 - Ultra ECDP工具兼容6英寸和8英寸平台，支持150毫米、159毫米和200毫米晶圆尺寸 [4] - 系统可配置两个开放式片盒和一个真空机械臂，为各种制造环境提供适应性 [4]

新产品发布 - 公司推出首款专为宽禁带化合物半导体制造设计的Ultra ECDP电化学去镀设备 具备晶圆级金蚀刻功能 可提升均匀性并减少底切[1] - 设备支持金凸块去除、薄膜金蚀刻和深孔金去镀等工艺 集成预湿和清洗腔室 采用多阳极电化学技术实现最小化侧蚀和优异表面处理[2] - 设备兼容6英寸和8英寸平台 支持150毫米、159毫米及200毫米晶圆尺寸 配置双开放式卡匣和真空机械臂以适应不同制造环境[4] 技术特性 - 采用模块化设计 可在单一平台集成镀膜和去镀工艺 运用多阳极技术实现分区控制 水平全表面去镀技术防止交叉污染[3] - 通过精确化学循环系统实现所有特征结构的卓越均匀性 显著改善金线外观表现[1][2] 市场背景与应用 - 化合物半导体市场受电动汽车、5G/6G通信、射频及人工智能应用驱动持续增长[3] - 金材料因高导电性、耐腐蚀性和延展性成为优势材料 但存在蚀刻和镀膜工艺挑战[3] - 设备针对碳化硅、砷化镓、磷酸锂等不同衬底的物理特性（重量、应力、厚度）进行优化设计[3] 公司定位 - 公司专注于半导体湿法处理设备领域 产品覆盖清洗、电镀、无应力抛光、垂直炉管及先进封装等工艺环节[6] - 致力于为半导体制造商提供定制化、高性能且成本效益优化的工艺解决方案 以提升生产效率和产品良率[6]

产品发布核心信息 - ACM Research公司于2025年9月7日宣布推出其首款Ultra Lith KrF track系统，该系统旨在支持前端半导体制造 [1] - 首套系统已于2025年9月发货给一家领先的中国逻辑晶圆厂客户 [1] - 此次发布扩展了公司的光刻产品线，并提供了高吞吐量性能、先进的热控制和实时工艺控制与监控功能 [1] 产品技术规格与性能 - 系统采用灵活的工艺模块配置，包括12个旋涂器和12个显影机（12C12D），由54个热板支持，能够进行低、中、高温处理，并具有行业领先的热均匀性 [3] - 系统吞吐量超过每小时300片晶圆（WPH） [3] - 系统集成了公司专有的背面颗粒去除单元技术，以最大限度地降低交叉污染风险 [3] - 集成的晶圆级异常值检测单元可实现实时工艺变化检测和良率异常监控，从而提高工艺稳定性和生产效率 [3] 产品开发背景与设计基础 - 该KrF track系统基于公司ArF track平台的成熟架构和工艺成果进行优化设计 [2] - ArF平台在2024年底与一家领先的中国客户成功完成了演示线工艺验证，展示了亚埃级别的涂布均匀性、先进的热控制以及与ASML扫描仪匹配的关键尺寸 [2] 战略意义与市场定位 - 此次产品发布扩大了公司在前端工艺设备领域的存在，体现了其致力于解决更广泛光刻挑战的承诺 [3] - KrF光刻技术对于成熟制程器件仍然至关重要，公司认为这部分业务占全球半导体产量的很大一部分且份额在增长 [3] - 通过同时提供ArF和KrF track系统，公司能够实现无缝的晶圆厂集成，并在多样化应用中提供更大的制造灵活性 [3]