光刻机行业核心观点 - 目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距 大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目 光刻机国产供应链有望优先受益 [1] - 建议关注光刻机核心部件 光刻机部件加工设备 光刻机整机等标的 [1] - 首次覆盖 给予光刻机行业"推荐"评级 [1] 光刻机技术特性 - 光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平 光刻机的关键指标是分辨率 焦深 套刻精度和产率 [1] - 分辨率提升方式包括缩短曝光波长 增大数值孔径 降低工艺因子以及多重曝光 [1] - 增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差 套刻精度影响光刻工艺良率和多重曝光水平 产率是光刻机实现产业化的必要条件 [1] 光刻机核心部件分析 - 对于投影光学光刻机 主要部件包括光源 照明 物镜 工件台 调焦调平 对准等 [2] - EUV光刻机特征显著 体现在材料选择 多层反射膜结构 反射式投影系统 大功率光源以及磁悬浮工件台等方面 [2] - 光刻机核心部件加工流程复杂 设备种类较多 是产业重要壁垒之一 [2] 光刻机市场规模预测 - 2025E全球光刻机市场规模为2937亿美元 其中照明+物镜 光源 工件台 其他部件市场规模分别为478 286 215 452亿美元 [2] - 2025E全球EUV光刻机市场规模为96亿美元 其中照明+物镜 光源 工件台 其他部件市场规模分别为155 126 70 115亿美元 [2] ASML成功经验分析 - 开放与合作是光刻机发展的主旋律 ASML的供应商遍布全球 [3] - Zeiss是百年光学巨头 ASML重要合作伙伴 [3] - Cymer主导全球光刻机光源市场 已被ASML收购 [3] - Gigaphoton是激光器光源领先供应商 产品种类丰富 [3] - TRUMPF在EUV激光器领域实力强大 是Cymer重要合作伙伴 [3] - 莱宝真空镀膜设备品类丰富 下游涉及EUV镜片镀膜 [3]