DRAM 3D架构转型

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国泰海通:NPU+3DDRAM或成端侧AI下一代技术趋势 推荐兆易创新(603986.SH)
智通财经网· 2025-05-27 16:23
DRAM技术发展趋势 - DRAM制程微缩放缓,长远命题在于从2D转向3D架构,当前DRAM芯片工艺已突破10nm级别,面临工艺完整性、成本、电容器漏电和干扰等挑战 [1] - 混合键合方案改进了Micro bump的堆叠高度限制,代表3DDRAM未来技术路径,与现有HBM方案相比,混合键合不配置凸块,可容纳较多堆叠层数和较厚晶粒厚度,改善翘曲问题 [1] - 三大HBM原厂已确定于HBM520hi世代使用Hybrid Bonding技术,混合键合方案的芯片传输速度较快且散热效果较好 [1] AI端侧技术路径 - AI端侧推理速度的瓶颈在于内存带宽而非算力,3DDRAM通过混合键合技术可显著提升传输效率,例如800GB/s带宽下高通骁龙8GEN3的推理速度可从4.8 tokens/s跃升至57 tokens/s [1][3] - NPU作为协处理器的运用叠加3DDRAM极有可能是下一代的端侧技术趋势,中国大陆玩家兆易创新及其投资子公司青耘科技、光羽芯成,以及中国台湾存储IDM华邦电、手机AP龙头高通等均发力3DDRAM+NPU方案 [3] AI模型与硬件发展 - AI应用走向百花齐放而非高度范化的统一模型,硬件侧为应用落地酝酿新技术储备,小型MoE模型如Qwen3-30B-A3B激活参数数量是QwQ-32B的10%,表现更胜一筹,为端侧应用提供模型基础 [2] - 海外硬件大厂在储备能让AI"泛在"与"常开"的技术,NPU协处理器与3DDRAM结合是下一代端侧技术趋势 [2] 行业推荐 - 推荐兆易创新(603986 SH),因其在3DDRAM+NPU技术趋势中的布局 [1]