会议概况 - 第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）将于2025年10月14-15日在深圳举行 [4][5] - 会议由中国集成电路创新联盟、中国光学学会主办，中国科学院微电子研究所等机构联合承办 [4] - 会议聚焦光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻等全产业链技术 [4] 会议特色 - 依托深芯盟产业集群优势，汇聚深圳及湾区半导体企业、高校与科研机构资源 [4] - 联动湾芯展产业生态，为全球领军企业提供创新展示平台 [4] - 为投资机构提供洞察粤港澳大湾区半导体机遇的窗口 [4] 学术合作 - 接收论文将送检SPIE Digital Library及EI数据库 [8][12] - SPIE是全球最大的光学和光电子学文献数据库之一 [7] 征稿范围 - 包括光学光刻、新兴图形技术、计量检测、计算光刻、材料与工艺等七大领域 [10] 投稿要求 - 摘要需用英文撰写，不超过500单词，需包含标题、关键词、作者信息及研究意义 [11] - 摘要截止日期为2025年7月31日，录用通知将于2025年8月21日发布 [11] - 全文提交截止日期为2025年9月30日，需遵循SPIE会议标准模板 [11][12] 历届会议 - 2017年首届会议在北京举行，后续分别在厦门、南京、成都等地举办 [13][17][20][21][24] - 2023年会议在浙江丽水举行，2024年在嘉兴举办 [35][36] - 历届会议论文可通过IEEE Xplore和SPIE数据库查阅 [36] 会议资源 - 更多信息可通过会议官网www.iwaps.org/cn获取 [36]