光刻设备
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全球半导体设备产业定期跟踪:阿斯麦(ASML)25Q3:业绩符合预期,后道设备前道化趋势明显
爱建证券· 2025-10-17 16:53
行业投资评级 - 报告对机械设备行业(半导体设备)的投资评级为“强于大市” [2] 核心观点 - 全球半导体设备产业,特别是先进光刻与先进封装领域,在AI基础设施投资驱动下需求持续强劲,后道设备呈现“前道化”趋势,相关设备厂商将受益于2025-2028年的产能投资高峰 [2][3][21] 25Q3业绩表现 - ASML 25Q3实现营收75亿欧元(约合7516百万欧元),环比下降2.3%,同比增长0.7%,符合业绩指引 [2][4] - 25Q3毛利率为51.6%,符合公司指引,盈利能力稳健 [2][4] - 25Q3新增订单54亿欧元,高于市场预期的48.9亿欧元,其中EUV订单达36亿欧元,占比66.7% [2][5] - 分业务看,光刻设备业务收入55.54亿欧元,服务业务收入19.63亿欧元,同比增长27.3% [2][4] 分产品与地区分析 - 分产品看,25Q3光刻设备销售额中,ArFi系统占比52%,EUV系统占比38% [8] - 分地区看,中国大陆净系统销售额占比达42%,但公司预计2026年对中国大陆出货量将因出口许可问题而回落 [8] - 25Q3 EUV系统出货9台,ArFi系统出货38台,存储端订单增长明显,达到25.38亿欧元,预计25Q4将维持高景气度 [10][14] 先进封装趋势与机遇 - 随着晶圆厚度和封装层数提升,芯片封装精度逼近前道工艺,后道设备“前道化”趋势明显 [3] - ASML面向先进封装的光刻机XT:260在25Q3首次出货,其产能达270片/小时,约为传统封装步进机的4倍 [3][16] - 根据BESI数据,全球约有1000亿美元的先进封装产线投资正在建设或规划中,产线投产高峰将集中于2025-2028年 [3][21][22] - 先进封装产能扩张涉及TSMC、Intel、SK海力士、三星等国际龙头,以及长电科技、通富微电等中国大陆企业 [3] 投资建议 - 报告建议重点关注在先进封装相关领域(如光刻、涂胶显影、薄膜沉积、刻蚀等)具备技术突破与明确客户验证进展的国内半导体设备厂商,包括:【芯碁微装】【芯源微】【迈为股份】【拓荆科技】 [3]
IWAPS 2025 | 第九届国际先进光刻技术研讨会日程公布
半导体行业观察· 2025-10-01 08:32
会议基本信息 - 第九届国际先进光刻技术研讨会(IWAPS 2025)将于2025年10月14日至15日在中国深圳五洲宾馆举行 [3][4] - 会议由中国集成电路创新联盟和中国光学学会主办,中国科学院微电子研究所、深圳市半导体与集成电路产业联盟等机构联合承办 [3][5] - 会议旨在构建覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻等全产业链的尖端技术对话平台 [3] 会议议程与专题设置 - 会议为期两天,设置多个并行专题会场,涵盖光刻技术全产业链 [9][11][13][14][15][16] - 专题议题包括图形化工艺、人工智能与工艺、计算光刻、掩模设备与优化、X射线计量、光刻胶与材料等 [12][13][14][15][16] - 会议安排包括开幕致辞、主题报告、邀请报告、墙报展示及晚宴等活动 [11][12] 参会机构与专家 - 参会机构包括全球领先的半导体设备商、材料商、制造商及科研院所,如ASML、KLA、Siemens、Hitachi High-Tech、Carl Zeiss、复旦大学、清华大学等 [12][13][14][15][16][25][28][29][30][31][32][33][36][37][38][39][40][41][42][43][44] - 会议邀请到多位业界知名专家做主题报告,如D2S公司的Linyong (Leo) Pang、复旦大学的Qiang Wu、香港中文大学的Bei Yu等 [12][48][51] 技术前沿与热点 - 会议重点关注先进制程节点技术,包括面向2纳米及以下逻辑技术节点的高数值孔径EUV光刻成像特性研究 [12][13][15] - 人工智能与机器学习在半导体制造中的应用是重要议题,涉及晶圆制造、掩模合成、良率增强、计量检测等环节 [12][13][15][16] - 计算光刻技术,如逆光刻技术、光源掩模协同优化等,是会议的核心讨论内容 [12][13][14][15] 论文与学术交流 - 本届IWAPS接收的论文将被送至SPIE Digital Library进行检索,并有机会被EI收录 [23] - 会议设置墙报交流环节,展示来自长江存储、华虹宏力、复旦大学、浙江大学等机构的最新研究成果 [17][18][19][20][21]
半导体甩掉了渣男外号
Datayes· 2025-09-24 20:24
A股市场表现 - "924"行情一周年以来A股主要指数涨幅显著 沪指累计涨超40% 深成指累计涨超65% 创业板指累计涨超108% 科创50累计涨126.5% [1] - 市场呈现"小登股"强势格局 代表个股如芯原股份年涨幅292.90% 生益电子涨131.45% 寒武纪-U涨105.22% 而"老登股"代表如海天味业跌12.68% 五粮液跌8.68% 中国人寿跌8.44% [2] - 今日市场低开高走 三大指数集体收涨 上证指数涨0.83% 深证成指涨1.80% 创业板指涨2.28% 科创50上涨3.49% 全市场超4400只个股上涨 成交额23474.78亿元 较上日缩量1713.16亿元 [16] 半导体设备进口 - 中国8月半导体生产设备(SPE)进口额达26亿美元 同比增长12% 环比下降22% 环比下降主要由于7月高基数 [5] - 年初至今SPE进口额达212亿美元 同比增长3% 较前7个月同比增速改善1个百分点 [5] - 进口需求增长主要由光刻设备驱动 同比增55% 该领域本土化能力有限 其需求是衡量中国整体晶圆制造设备(WFE)需求的领先指标 [6] 区域半导体设备需求 - 上海进口需求强劲 同比增132% 表明该市28纳米及以下逻辑芯片产能在持续扩张 [6] - 湖北SPE进口需求回升 同比增23% 环比增296% 可能暗示长江存储或武汉新芯扩产 [6] - 广东进口需求开始正常化 环比下降46% 尽管同比仍增164% [6] 设备类型进口结构 - 光刻设备占SPE进口总额28.6% 同比提升8个百分点 非光刻设备占比71.4% [7] - 蚀刻设备进口额558亿美元 同比增2% 沉积设备进口额576亿美元 同比降6% [7] - 离子注入机进口额118亿美元 同比降34% 其他设备进口额同比增27% [7] 阿里巴巴与AI合作 - 阿里巴巴股价大涨9% 与英伟达开展Physical AI合作 覆盖数据合成处理、模型训练、环境仿真强化学习及模型验证测试等领域 [13] - 公司宣布token使用量每2-3个月翻一倍 在未来三年3800亿元投入计划基础上追加投资 [13] - 全球数据中心电力消耗预计到2033年将较2022年增长10倍 阿里云2022年数据中心产能约2.5GW 预计到2032年增长到25GW [13] 行业政策与动态 - 商务部等8部门联合印发《关于大力发展数字消费共创数字时代美好生活的指导意见》 开展智能网联汽车准入和上路通行试点 培育数字国潮品牌 [20] - 六部门印发《建材行业稳增长工作方案(2025—2026年)》 严禁新增水泥熟料、平板玻璃产能 新建改建项目须制定产能置换方案 [21] - 国家新闻出版署批准11款进口游戏 包括《宇宙机器人》等 [22] 资金流向与龙虎榜 - 主力资金净流入951.73亿元 电子行业净流入规模最大 北方华创居首 [26] - 净流入前五大行业为电子、计算机、电力设备、机械设备、医药生物 净流出前五大行业为银行、汽车、煤炭、社会服务、建筑装饰 [26] - 龙虎榜显示机构净买入力星股份24169.98万元 汇成股份15173.86万元 北方华创14288.91万元 [31] 知名游资动向 - 炒股养家买入山子高科1.053亿元 深科技5981万元 [35] - 中山东路买入北方华创2.314亿元 黄河旋风7049万元 [35] - 毛老板买入北方华创3.874亿元 呼家楼卖出北方华创2.103亿元 [35] 行业估值与拥挤度 - 电力设备、电子、传媒领涨 银行、煤炭、通信领跌 [36] - 机械设备、公用事业、国防军工交易热度提升居前 农林牧渔、非银金融、食品饮料PE处于历史百分位低位 [36] - 申万行业拥挤度显示公用事业、医药生物、食品饮料拥挤度较低 通信、煤炭拥挤度下降明显 [38]
继英伟达之后,ASML也投资了这家AI初创企业
半导体芯闻· 2025-09-10 18:11
融资与估值 - Mistral AI在C轮融资中筹集17亿欧元(约20亿美元)由ASML领投[2] - 公司估值从60亿美元提升至137亿美元 实现翻倍以上增长[2] - 参与投资方包括Nvidia、DST Global、Andreessen Horowitz、法国国家投资银行等知名机构[2] 技术产品竞争力 - 公司开发多语言大语言模型 聊天机器人Le Chat具备深度研究、图像编辑和语音模式功能[3] - 语音模型Voxtral性能优于OpenAI的Whisper模型 采用开源架构[3] - 5月发布Mistral Medium 3模型 成本效益优于Meta的Llama 4 Maverick和Cohere Command A[4] - 6月推出开发者专用代码助手Mistral Code及推理优化模型系列Magistral[4] 战略合作与行业定位 - ASML首席执行官表示合作将通过创新产品为芯片制造客户带来显著益处[4] - Mistral AI首席执行官强调合作将贯通从AI开发到基础设施工程的技术链[5] - ASML首席财务官将加入Mistral战略委员会董事会[6] - 双方连接点在于AI技术及欧洲企业血统 ASML依赖其光刻技术生产AI芯片[6] 行业格局与战略意义 - Mistral AI被视为欧洲AI领军企业 直接与OpenAI、Google Gemini竞争[3][6] - 合作体现"技术主权"理念 符合后全球化时代政治经济趋势[7] - ASML作为全球领先光刻设备商 其技术对三星、英特尔、苹果芯片生产至关重要[4]
阿斯麦牵头最新一轮融资后成为Mistral AI最大股东-美股-金融界
金融界· 2025-09-08 07:58
投资交易 - 阿斯麦将向米斯特拉尔人工智能投资13亿欧元(约15亿美元) 占其17亿欧元(约20亿美元)C轮融资的大部分 [1] - 本轮融资前米斯特拉尔估值为100亿欧元(约117亿美元) 融资后成为欧洲估值最高的人工智能企业 [1] - 阿斯麦有望获得米斯特拉尔董事会席位 交易由美国银行提供咨询服务 [1][3] 公司背景 - 米斯特拉尔是法国人工智能初创公司 被视为欧洲人工智能领域领军企业 [1] - 公司成立于2023年 创始团队包括前DeepMind研究员和前Meta研究员 [3] - 竞争对手包括美国科技巨头OpenAI和Alphabet旗下的谷歌 [1] - 此前获得英伟达投资 B轮融资后估值超过60亿美元 [2] 战略意义 - 投资旨在加强欧洲科技主权 减少欧洲对美国人工智能模型的依赖 [1] - 建立欧洲两家科技领军企业的紧密联系 [1] - 阿斯麦可运用米斯特拉尔的数据分析及人工智能能力提升设备性能并开发更多产品 [2] 行业地位 - 阿斯麦是先进芯片制造设备核心供应商 极紫外光刻设备的独家供应商 [2] - 客户包括台积电和英特尔等芯片制造商 [2] - 极紫外光刻系统单价约1.8亿美元 是制造最先进芯片的必备设备 [2] - 阿斯麦还运用人工智能提高其设备的效率 [2]
头部半导体设备厂商齐聚无锡
21世纪经济报道· 2025-09-05 19:58
展会规模与行业地位 - 第十三届半导体设备与核心部件展示会(CSEAC)在江苏无锡举办 展会规模从最初十几个标准展位增长至1130余家参展企业 观展人数从400-500人增长至超过10万人次[1] - CSEAC已成为国内第二大行业展会 重点展示光刻 薄膜 刻蚀 化学机械抛光等晶圆制造设备 划片 键合 晶圆测试等封测设备以及集成电路专用材料[1] 参展企业动态 - 中微公司推出六款半导体设备新产品 覆盖等离子体刻蚀(Etch) 原子层沉积(ALD)及外延(EPI)等关键工艺[1] - 盛美上海展出面板级先进封装电镀设备 立式炉管设备 PECVD TRACK等设备[1] - 半导体设备企业新凯来展出刻蚀设备ETCH(武夷山)和ALD(阿里山)等模型 该公司成立刚满4年[1] 行业参与度 - 国内龙头企业北方华创 盛美半导体 中微半导体 拓荆科技 新凯来等悉数参展[1] - 展会自2021年扎根无锡以来规模持续攀升 吸引1130余家参展企业参与[1]
中国芯片制造技术与西方存20年差距,光刻设备成关键瓶颈
新浪财经· 2025-09-04 06:15
技术差距 - 中国在先进芯片制造领域与西方发达国家存在大约20年的技术差距 [1] - 中国在光刻设备制造方面与美国相比存在明显差距 [1] 光刻设备制约 - 最先进光刻设备由欧洲企业研发制造 其技术依赖美国核心零部件 [1] - 中国企业难以获得高端光刻设备 直接导致先进工艺研发和量产面临困难 [1] - 国内芯片制造企业采用相对落后技术手段制造7纳米工艺芯片 影响生产效率和显著提高制造成本 [1] 供应链与核心技术 - 高端光刻设备制造涉及全球供应链体系 关键零部件多分布于美欧地区 [1] - 光刻工艺是将芯片设计图形转移到硅片上的核心技术 高端设备能实现更精细线路刻画提升芯片性能 [1] - 光刻设备在芯片制造流程中具有不可替代的关键作用 决定整个产业向高端化发展的能力 [1]
三张图了解国内半导体产业链布局
选股宝· 2025-09-03 10:59
半导体设备市场规模与国产化率 - 2024年全球晶圆制造设备市场规模达600亿美元 其中薄膜沉积设备256.3亿美元 刻蚀设备180.9亿美元 光刻设备258.4亿美元[2][4] - 热处理设备国产化率从2021年11%提升至2024年23% 市场规模31.5亿美元[2] - 薄膜沉积设备国产化率从2021年5%提升至2024年19% 国内主要厂商包括北方华创、中微公司、拓荆科技[2] - 刻蚀设备国产化率从2021年11%跃升至2023年28%并维持至2024年 市场规模180.9亿美元[2] 细分领域国产化进展 - CMP设备国产化率从2021年18%大幅提升至2023年43% 2024年回落至40% 市场规模29.8亿美元 华海清科和晶亦精微为主要厂商[2] - 清洗设备国产化率从2021年26%增长至2023年34% 2024年小幅回落至32% 市场规模65.7亿美元 盛美上海、北方华创等企业参与[2] - 涂胶显影设备国产化率2024年为10% 较2023年13%有所下降 芯源微为主要厂商[2] - 检测/量测设备国产化率最低 2024年仅5% 较2021年3%提升有限 精测电子、中科飞测等企业布局[2] 产业链企业布局 - 北方华创覆盖热处理、薄膜沉积、刻蚀、清洗、PVD设备等多个环节[2][4] - 中微公司专注刻蚀和薄膜沉积领域 中科飞测布局检测设备[2][4] - 盛美半导体在清洗设备领域具有优势 华海清科主导CMP设备国产化[2][4] - 上海微电子涉足光刻设备 芯源微聚焦涂胶显影设备[2][4]
佳能,能拉日本半导体设备一把吗?
36氪· 2025-08-25 18:45
全球前端半导体设备市场格局 - 2024年全球前端半导体设备市场由美国(44.3%)、欧洲(29.2%)、日本(21.7%)、中国(3.4%)和韩国(1.4%)主导 [9] - 日本市场份额自2011年起持续下滑 2010年前与美国竞争首位 2023年被欧洲超越降至第三 [6] - 中国厂商在干法刻蚀设备领域崛起 北方华创和中微电子各占6%份额 北方华创在PVD设备领域占12%份额 [1] 主要设备类型市场份额 - 光刻设备市场规模达244亿美元 ASML占据94.1%绝对优势 [2] - 干刻设备市场规模171亿美元 由Lam Research和应用材料共同占据58.9%份额 [2] - 视觉检测设备市场规模143亿美元 KLA和应用材料合计占69.6%份额 [2] - CVD设备市场规模115亿美元 应用材料和Lam Research合计占62.3%份额 [2] 日本设备商细分领域优势 - 日本在涂布显影设备(94.5%)、热处理设备(82.2%)、单晶圆清洗设备(63.5%)、批量清洗设备(73.5%)、掩模检测设备(50%)、CD-SEM(65.5%)占据主导 [2] - 这些设备市场规模相对较小 未能扭转日本整体份额下降趋势 [2][9] 光刻设备市场动态 - 2024年光刻设备年出货量达682台 较2010年代初增长超一倍 [14] - ASML出货量份额稳定在60%以上 佳能份额从2011年14.5%升至2024年32.7% 尼康从23.7%降至4.7% [16] - EUV设备仅ASML能供应 2024年出货44台 单价约308亿日元 [19] 各类型光刻设备竞争格局 - ArF浸没式设备ASML占97%份额(2024年出货129台) 尼康仅3%(4台) [19][23] - KrF设备ASML占70.5%份额(129台) 佳能占27.9%(51台) [19][23] - i-line设备佳能占74.6%绝对优势(182台) ASML和尼康份额分别降至18%和7.4% [19][23] 企业战略分化 - ASML聚焦垄断EUV和高端ArF浸没式光刻技术 已开始出货高NA EUV设备 [25] - 佳能放弃EUV和ArF开发 专注KrF和i-line领域 在i-line领域占据74.6%份额 [28] - 尼康在所有光刻设备类型中均大幅落后 缺乏明确战略方向 [28] 纳米压印光刻技术潜力 - 佳能与铠侠联合开发纳米压印光刻(NIL) 通过压印模板形成图案 设备成本远低于EUV(308亿日元) [29][33] - NIL技术存在异物导致缺陷的挑战 若克服该问题可能引发光刻技术范式转变 [33] - 该技术可应用于从2nm尖端工艺到老旧节点的广泛领域 有望成为佳能新业务支柱 [34]
一图了解半导体设备各环节国产化率水平
选股宝· 2025-08-22 13:16
全球晶圆制造设备市场规模 - 2024年全球热处理设备市场规模31.5亿美元 [2] - 2024年全球薄膜沉积设备市场规模256.3亿美元 [2] - 2024年全球刻蚀设备市场规模180.9亿美元 [2] - 2024年全球光刻设备市场规模258.4亿美元 [2] - 2024年全球CMP设备市场规模29.8亿美元 [2] - 2024年全球清洗设备市场规模65.7亿美元 [2] - 2024年全球涂胶显影设备市场规模35.3亿美元 [2] - 2024年全球检测/量测设备市场规模142.5亿美元 [2] 国产化率进展趋势 - 热处理设备国产化率从2021年约11%提升至2024年约23% [2] - 薄膜沉积设备国产化率从2021年约5%增长至2024年约19% [2] - 刻蚀设备国产化率从2021年约11%大幅提升至2023年28%并维持至2024年 [2] - CMP设备国产化率从2021年约18%跃升至2023年43% 2024年略降至40% [2] - 清洗设备国产化率从2021年约26%稳步增长至2023年34% 2024年微调至32% [2] - 涂胶显影设备国产化率2021年约7% 2024年回落至10% [2] - 检测/量测设备国产化率从2021年约3%缓慢提升至2024年约5% [2] 国内主要设备供应商分布 - 热处理设备主要供应商为北方华创 屹唐股份 [2] - 薄膜沉积设备主要供应商包括北方华创 中微公司 拓荆科技 微导纳米 [2] - 刻蚀设备主要供应商为北方华创 中微公司 屹唐股份 [2] - 光刻设备主要供应商为上海微电子等企业 [2] - CMP设备主要供应商为华海清科 晶亦精微 [2] - 清洗设备主要供应商包括盛美上海 北方华创 芯源微 至纯科技 [2] - 涂胶显影设备主要供应商为芯源微 [2] - 检测/量测设备主要供应商包括精测电子 中科飞测 上海睿励等 [2]