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卧式点源蒸镀设备
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曼恩斯特真空镀膜设备矩阵发布
起点锂电· 2025-04-19 14:22
行业背景 - 真空镀膜技术是泛半导体制造的核心工艺 直接影响光伏电池 显示屏 新能源器件等产品的性能和量产效率 [3] - 全球对钙钛矿光伏 柔性显示等高端技术的需求激增 市场对镀膜设备的精度 稳定性和多材料兼容性提出更高要求 [3] 公司技术突破 - 曼恩斯特推出三大真空镀膜设备 包括单体磁控真空镀膜设备 磁控溅射连续线真空镀膜设备及卧式点源蒸镀设备 [3] - 三大设备以差异化技术矩阵精准覆盖新能源 光伏 显示等核心产业需求 加速国产高端镀膜装备自主化进程 [3] 单体磁控真空镀膜设备 - 适用于硬质涂层 氢能源双极板 装饰等领域 可实现硬质膜 介质膜 导电膜的沉积 [6] - 设备配置公自转转架 实现产品全方位镀膜 通过配置不同靶材实现反应溅射或单质溅射 [6] - 产品特点包括紧凑型设计 高度集成化外观 转架转速可调节 多元镀层沉积技术等 [8] 磁控溅射连续线真空镀膜设备 - 适用于光伏 触控显示 光学 装饰 电磁屏蔽等领域 可实现介质膜 导电膜的沉积 [10] - 针对钙钛矿光伏领域配置低损伤阴极 有效保护钙钛矿功能涂层 降低高能电子损伤 [10] - 产品特点包括定制单/双面镀膜靶位 模块化腔体设计 连续性产品输出 低电子损伤等 [12] 卧式点源蒸镀设备 - 适用于光伏 OLED QLED等领域 可实现有机材料 金属或无机材料的沉积 [14] - 设备配置分布式点源 高精度晶控系统精确控制镀层厚度 采用PID与晶控联动模式控制点源蒸发温度及材料蒸发速率 [14] - 产品特点包括模块化腔体设计 高精度蒸发源结构 定制化机型选择等 [16] 行业影响 - 三大设备发布填补国产高端真空镀膜装备在精度控制与工艺适配性上的空白 [17] - 为泛半导体产业核心技术突破注入新动能 未来将持续深化精密涂布技术与真空镀膜工艺的融合创新 [17]