极紫外(EUV)光刻设备

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ASML:下行风险有限,上行潜力巨大
美股研究社· 2025-10-16 18:13
这些看空观点大多 "只见树木,不见森林"。原则上,我们认为以下几点判断是成立的: 全球晶圆需求总量决定半导体设备需求,与生产地点无关。 阿斯麦(ASML)是极紫外(EUV)光刻设备的独家供应商,台积电(TSM)、英特尔 (INTC)等企业均依赖该设备,生产用于人工智能、智能手机及计算机领域的最先进芯片。 同时,阿斯麦在深紫外(DUV)光刻设备领域也形成了实际垄断,而DUV设备是晶圆厂中最主 要的光刻生产工具。 2024 年年中,阿斯麦股价创下 1002 欧元的历史高点。 此后,在 "解放日" 低点时,股价累 计下跌 45%,之后便在 700 欧元左右区间震荡。2025 年第二季度的财报电话会议堪称 "灾 难性"—— 首席执行官克里斯托夫・福凯主动表示,尽管无人问及 2026 年业绩,阿斯麦 "无 法确认" 2026 年的增长情况,这一言论进一步将看空情绪推向顶峰。 在人工智能基础设施投资热潮下,市场不看好这家半导体行业企业的理由,可总结为以下几点 : 阿斯麦处于龙头地位,任何企业若需采购 DUV 或 EUV 设备,都必须向阿斯麦下单(尽管佳 能、尼康也销售少量性能较差的 DUV 设备,但市场占比可忽略不计)。 ...
台积电EUV光刻机重大突破!节电44% !
是说芯语· 2025-10-03 09:35
文章核心观点 - 公司通过关键技术革新,成功将其最先进极紫外光刻设备的峰值功耗大幅降低了44% [1] - 此项能效提升是公司实现2050年净零排放目标的关键一步,并为整个半导体产业链树立了新的能效标杆 [3] - 核心制造设备的能效提升对全行业的减排目标至关重要,公司将继续投资绿色制造技术研发 [5] 技术突破细节 - 能效的飞跃性提升源于设备协同优化、光源转换效率以及系统运行模式上的深度创新 [3] - 优化是在不牺牲光刻精度和产能的前提下,实现了设备在峰值运行时的功耗显著下降 [3] - 此项技术将直接应用于公司最新的制程工艺 [3] 能耗背景与影响 - 一台先进极紫外光刻机全力运转下,每小时耗电量大约在1到1.5兆瓦时 [7] - 单台设备日耗电量约在24,000至36,000度电之间,相当于1200到1800个中国普通家庭一天的用电总和 [7][8] - 以中间值1.25兆瓦/小时计算,降低44%功耗后,单台设备每小时可节省约0.55兆瓦电力,日节省约13,200度电 [11] - 对于拥有数十台极紫外光刻机的庞大生产线,此项改进每年节省的电力将是数亿度级别 [11] 行业意义与公司承诺 - 半导体制造业是全球能源消耗增长最快的行业之一,制造设备能耗占芯片总碳足迹的相当大部分 [5] - 公司已承诺到2050年实现全球运营100%使用可再生电力并达到净零排放 [5] - 公司此举将有效降低下游产品的碳足迹,强化其客户产品的市场竞争力 [3]