新产品和新技术研发 - 一台12英吋LPCVD炉管设备成功通过客户验收，用于LP -Si N薄膜沉积工艺[4] - 一台12英吋ALD炉管设备在客户端验证，用于ALD -Si N╱ALD -Si CN薄膜沉积工艺[4] - 完成开发用于14 / 7nm节点的Low - K ALD Si OCN炉管设备[5] 市场表现 - 自2025年10月至今，五台6至12英吋CUBE单 片清洗设备于多家高质量客户处通过验收[5] - 五台单 片清洗设备中有两台为重复订单[5] 公司治理 - 董事会由八名董事组成，含三名执行董事，两名非执行董事，三名独立非执行董事[8]