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ALD原子层沉积系统
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2026 SEMICON China,韫茂科技全新发布300mm ALD/PVD
半导体芯闻· 2026-03-26 18:51
公司产品发布与突破 - 2026年3月26日,公司在SEMICON CHINA现场重磅发布自主研发的300mm量产级薄膜沉积设备,包括ALD(QBT-A300)与PVD(QBT-P300)[1] - 两大核心装备以高自动化、高稳定性与高一致性为基石,全面对标先进制造需求,深度赋能芯片规模化量产[1] - 此次发布标志着公司在ALD与PVD关键设备领域实现重要突破,完成了产品版图的战略升级[1] 公司技术定位与产品矩阵 - 公司专注于原子级制造设备,布局前沿泛半导体市场,已进入Mini/Micro LED、先进光学、化合物半导体、先进芯片等应用领域[4] - 公司已形成以ALD原子层沉积系统、PVD物理气相沉积系统、CVD化学气相系统、Epi外延炉等一系列薄膜沉积设备为核心的产品矩阵[4] 行业挑战与公司价值 - 公司聚焦新一代器件材料持续演进带来的工艺挑战[1] - 凭借领先的技术实力与工程能力,公司正加速打通原子级制造关键环节,助力客户突破工艺边界,释放更广阔的产品创新潜能[1]