如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ EUV技术自从其提出以来，面临着多重挑战，包括高成本、复杂的光学系统以及需要在高精度 下制造光罩等。然而，随着技术不断成熟，EUV逐渐突破了制程限制，尤其在10nm及以下的制 程中展现出了其不可替代的优势。 近期，英特尔、imec、美光、三星等公司纷纷宣布与EUV相关的重要进展，进一步加速了EUV 技术的商用应用及发展，这标志着EUV技术进入了新的阶段，有着显著的变革。 High NA EUV，厂商新进展 在2025年SPIE先进光刻 + 图案化技术大会上，不少顶尖的芯片厂商讨论了EUV光刻机尤其是最新一 代的High NA EUV光刻机的一些应用进展。 英特尔，季产3万片 英特尔是第一家购买High NA EUV光刻机的芯片厂商，据悉，每台机器价值高达3.5亿欧元。不过英 特尔采用这些新机器暂时用于研发用途。英特尔工程师Steve Carson在 SPIE 先进光刻+图案会议上 透露，英特尔去年在其位于俄勒冈州希尔斯伯勒附近的D1开发工厂安装并开始使用两台ASML High-NA Twinscan EXE:5000 EUV 光刻工具，目前已使用这些系统在一个季度内处 ...